二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9270691 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一种先进的等离子体蚀刻反应器，设计用于生产晶体管、集成电路和光电元件等高性能纳米设备。该反应堆在保持总体低拥有成本的同时，提供了优化的蚀刻速率、均匀性和选择性。AMAT P-5000是一种单晶片模腔，电极间距为40厘米。蚀刻室有一个用于均匀蚀刻的旋转惰性阴极和两个平行的源，分别针对不同的工艺操作。APPLIED MATERIALS P 5000也有内置的清洁机制，有助于最大限度的减少颗粒堆积，减少晶圆表面的沉积。APPLIED MATERIALS P-5000利用先进的功率转换、等离子体激发和信号处理技术来实现高蚀刻均匀性和控制,从而加快处理时间并提高设备性能。它还包括计算机控制的自动化控制设备，允许精确控制蚀刻参数。AMAT P5000还有一个集成的高真空系统，以尽量减少蚀刻工艺条件的任何有害影响。P-5000旨在通过低泄漏和低应力来提高设备性能。反应堆采用先进的氧化物蚀刻回法，降低有效氧化物厚度，最大限度地减少泄漏。该装置还采用专利射频匹配电路，减少蚀刻诱导应力，提高器件性能。P5000还允许对薄膜晶体管（TFT）进行热和应力控制处理。这一过程涉及应用外部热源热激活薄膜以提高器件性能。此外，P 5000可用于掺杂剂的化学气相沉积（CVD），使先进器件的制造成为可能。总而言之，AMAT P 5000是一种先进的等离子体蚀刻反应器，提供卓越的设备性能和生产力。该机器允许精确调整蚀刻参数、自动控制以及热和应力控制处理,从而能够制造高级设备。