二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9280086 待售
网址复制成功!
单击可缩放
ID: 9280086
晶圆大小: 8"
Etcher, 8"
Chamber A and B: MxP Metal
Chamber D: Strip
Mark II Mainframe
29 Slots storage elevator
Helium cooling
Expanded VME
Robot: Phase III
Cassette: Phase II
AC Remote frame
Cables: Digital and analog
Emergency interlock cables
Heat exchanger: AMAT 0
RF Generators: ENI 12A and 12B
ASTEX Microwave
Options: (2) ALCATEL Dry pumps and booster pump.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一种高度可靠和高效的基于等离子体的半导体反应堆。它使用多种高级功能构建,以确保高效的性能和最大的生产力。AMAT P-5000是一种单室径向流动等离子体反应器,设计具有最大的可扩展性和多区灵活性。APPLIED MATERIALS P 5000的初始源气体配置包括Ar-Cl2,能够从该单一组合中产生多达五种不同源气体。该可变源可用于多晶硅沉积、栅极氧化物形成、多硅栅极硅化等应用。五区可调工艺参数可以精确控制蚀刻和沉积工艺。同时,电介质壁和长寿命封装电极有助于减少颗粒污染,保持工艺的均匀性。AMAT P 5000包括一个等离子体源发生器,能够在广泛的频率范围内产生高度均匀的等离子体。反应堆强大的动力传递和控制能力确保了可靠的性能过程产量。AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000具有自动加载/卸载功能,可容纳多达16个200 mm晶圆或13个300 mm晶圆。温度均匀性由发电机的集成冷却模块保证。AMAT P5000除了具有先进的功能外,还包括若干安全功能。FM O2监视器在氧气含量超过预设限值时自动关闭气体供应,以避免潜在危险。此外,气闸在检测到未经授权进入时,会自动关闭舱门,从而防止操作员与操作环境接触。总体而言,P-5000等离子体反应堆是半导体制造的绝佳选择。它为高端蚀刻和沉积过程提供卓越的性能、可扩展性和安全性。APPLICED MATERIALS P5000具有强大而高效的设计,是任何寻求可靠且经济高效结果的工厂的理想选择。
还没有评论