二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9284522 待售
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已售出
ID: 9284522
优质的: 1995
CVD System
Process: Depo rate
Oxide: 6000 A/min
Uniformity: 5%
(12) Gases:
Gas no / Sccm / Gas
1 / 200 sccm / Sih4
2 / 100 sccm / NH3
3 / 3000 sccm / N2
4 / 2000 sccm / N20
5 / 2000 sccm / CF4 / SF6
7 / 200 sccm / Sih4
8 / 100 sccm / NH3
9 / 3000 sccm / N2
10 / 2000 sccm / N2O
11 / 2000 sccm / CF4 / SF6
AC Power
Mainframe configuration:
Mark Ⅱ, 6"
I/O Wafer sensor
(21) VME Slots
Phase 3 Robot
Phase 3 Cassette handler
(8) Slots storage elevator
Viton O-ring
Clean gas box
Pressure control system
Throttle valve
Isolation valve open / Close type
Temp control: Lamp heated
Vacuum system
Chamber: EDWARDS QDP80+QMB500 Pump
Load lock chamber: ADP80
Nitrogen
Compressed air: CDA / N2
Exhaust
Fuse: AC/DC Power box
RF Power supply: 1.2 kw and 13.56 MHz
Power supply: 208 V, 200 A, AC Input, 3 Phase, 5 Wires
1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Reactor是一种用于全面薄膜沉积工艺的最先进的设备。AMAT P-5000采用物理气相沉积（PVD）技术,非常适合各种基材的优质保形涂层和硬涂层要求。APPLICED MATERIALS P 5000配备两个电源，实现独立脉冲控制和集成门阀，提供卓越的温度均匀性。AMAT P 5000还可以配备内置高压发电机，让沉积过程针对特定应用量身定制。此外，P-5000还可与膨胀室、进气泵、真空泵、负载锁和提升阀集成在一起，确保高质量的薄膜沉积，具有优异的工艺再现性。AMAT P5000反应堆配备了易于操作的用户友好控制界面和先进的安全协议。此外,AMAT/APPLICED MATERIALS P 5000还提供了高级的过程控制功能,能够通过强大的自动化实现完整的过程参数设置。应用材料P-5000反应堆可容纳450mm以下的基体，在广阔的区域内提供卓越的均匀性和沉积速率。P5000配有独特的腔室设计，可以加工各种尺寸和形状的基板。AMAT/APPLICED MATERIALS P-5000 Reactor是一种有价值的技术，用于快速、经济地生产具有卓越质量和工艺重复性的复杂薄膜。反应堆是许多需要提高性能、提高安全性和加强控制的行业的完美工具。通过消除传统的沉积工艺和引入自动化、高度均匀、快速和可靠的沉积工艺,P 5000在各种基材上提供了卓越的薄膜均匀性、附着力和光滑覆盖。这使得它成为涂覆各种基材的最可靠和最值得信赖的技术之一。
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