二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9291957 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是为生产薄膜沉积而设计的化学气相沉积（CVD）设备。这一高效反应堆设计用于处理厚度为5nm的硅层、氙层和氮化氙层。反应堆有一个直径为300毫米、长度为250毫米的圆形腔室。该室的基座由一个容量为12千瓦的高温炉组成。这种独特的设计使腔室的温度得以精确控制，沉积速率进一步优化。AMAT P-5000反应堆配备了先进的磁悬浮机械真空泵，提供无大气真空水平。在这种低压系统下，硅、氙和氮化的沉积速率大大提高。其设计目的是在腔室中保持非常低的压力，以确保在整个基板上有高度均匀的层生长。该装置还配备了先进的气体输送机，便于精确控制加工气体。该工具支持多种工艺气体，允许多用途的沉积。APPLICED MATERIALS P 5000设计为AS-PET Poly Hot Lamp，具有将基板加热至最高1,000 °C的能力。这一特性允许使用一系列的底物材料，如多晶硅、多硅酸盐玻璃、聚环氧乙烯和聚邻苯二甲酰胺。此外，P5000还采用了独特设计的石英灯，可实现细粒工艺控制。资产的稳定性对薄膜的质量也至关重要，AMAT P 5000表现出色。密封腔室以防止任何短期大气波动，而闭环气体输送确保腔室永久保持在恒定压力下。高度先进的温度控制和稳定系统还确保腔室保持在一致的温度和压力下，以确保最高质量的薄膜层。在处理方面，P-5000反应堆效率非常高。该设备配有内置冷却模型和风扇,无需任何外部冷却源即可快速冷却基板。此外，由于结构轻巧，该室极易进入和操作。APPLIED MATERIALS P5000设计尺寸紧凑,几乎可以放在任何实验室台面上。总体而言,APPLIED MATERIALS P-5000是一种用于薄膜层生产的有效CVD系统。它提供精确的温度控制和极其耐用、重复的结果。它非常适合各种材料的沉积，并已被证明是研究人员和工业专业人员的一个热门选择。