二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9292241 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一种多腔高通量表面处理室,具有最先进的功能,旨在为各种10纳米以下集成电路应用提供高性能的精密处理。该腔室提供了一系列的功能尺寸低至0.3nm，即使在极低剂量达一位数的纳米安培下也能提供强大的性能。它为精确的轮廓控制、高氢灵敏度和纳米级的精确控制提供了卓越的并行性，以满足IC生产的要求。AMAT P-5000是一种先进的等离子体增强型化学气相沉积（PECVD）源.它使用了强大的源室、超快的泵速度以及先进的变温过程控制，以减少处理几乎任何基材所需的时间。此功能允许客户在一小部分时间内将其流程投入生产。该反应堆的独特之处在于，它通过提供变温控制作为系统标准，提供了前所未有的工艺参考精度。APPLIED MATERIALS P 5000使用四象限温度控制，确保反应堆区内气体的温度能精确匹配客户的温度曲线。P-5000还提供了一个独特的"等离子体就地"功能，可以确保由于基板的快速冷却和重新加热而造成的最小热损害。这种等离子体就位能力还有助于通过在沉积循环的热加速循环期间保持均匀的基质温度来防止基质上的沉积异常。AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000旨在提供卓越的性能,使客户能够在不需要高水平专业知识的情况下实现所需的流程结果。P 5000提供了一个用户友好的控制界面,使客户能够监控流程参数,即时进行调整,并结合流程反馈以改进流程控制。APPLIED MATERIALS P5000还具有完全杠杆化的PECVD功能,使客户能够在一个经济高效的系统中利用PECVD的优势。AMAT P 5000支持多种不同的工艺配方，包括基板级修补、光刻、退火和氧化工艺。集成的硬件、软件和预先配置的配方数据库简化了设置过程,并最大限度地减少了开发和调整介电堆栈及其他应用程序所需的时间。总之，P5000是一个强健、功能丰富、先进的表面处理室，用于10nm以下的IC应用。该反应堆提供了卓越的精度和性能，以及用户界面和对简化、经济高效的工艺的多种配方的支持。