二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9292243 待售

ID: 9292243
晶圆大小: 6"
优质的: 1995
PECVD SiO2 / SiN /dry etcher, 6" Mark II frame Chambers and gas configuration: Dry etch, TEOX, SIN (3) Chambers for Dry Etch, TEOX, SIN (1) PTEOS Chamber (1) Oxide etch Chamber (1) SiN Chamber A: 50 sccm N2, 1 slm N2, 1 slm O2, 3 sccm N2, SiH4 B: 200 sccm Ar, 3 slm N2, 3 000sccm N2, 1 slm N2, 100sccm NH3, 500 sccm N2, (SiH4) C: 1100 sccm N2, 1 sccm N2, 3 slm N2 TEOS Bubbler Chuck type: Mechanical clamp Elevator size: Short Frame type: Standard Loader type: Manual Loadlock Gas box: Hot RF Matches Indexers Automated cassette-to-cassette handling Turbo pumps Controllers No Remote AC BOX No generator rack 1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000反应堆是一种用于半导体工业的高性能再氧化工具。它专为改善当今集成电路的设计和性能而设计,用于重新氧化铝膜和电介质膜。AMAT P-5000提供了可重复和可靠的氧化过程,从而缩短了循环时间,提高了吞吐量,降低了成本。APPLIED MATERIALS P 5000是业界最先进的再氧化技术,具有独特而精密的体系结构,包括强大的硬件、过程和软件技术。AMAT P5000反应堆的硬件包括高温碳化硅敏感器和熔炉、供应活性材料的蒸发源、带有保护气体的石英分离管和工艺气体输送系统。所有这些组分结合在一起提供了一个优化的氧化过程。P5000的过程控制软件允许用户进行实时实验,以优化他们的过程参数,控制温度和流量,并对室内的化学环境进行调节。该软件包括动力学和过程控制功能,使用户能够最终控制其氧化过程。APPLICED MATERIALS P5000利用AMAT精密的工艺控制技术,该技术具有四个不同的温度区,每个温度区的每个薄膜输送到腔室。这有助于确保每次运行都有精确、可重复的氧化过程。此外,系统的"涡轮模式"允许在过程瞬变期间氧气电源激增。这有助于提供更均匀的横跨晶片的氧化剖面,从而提高产量.AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000反应器是电极在铝膜和电介质上精确应用的理想工具。它能够提供精确和可重复的氧化过程,从而减少循环时间,提高吞吐量,降低成本。该系统由APPLIED MATERIALS强大的过程控制软件支持,它为用户提供了对其氧化过程的最终控制。
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