二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9293601 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一种用于半导体制造过程的化学气相沉积（CVD）反应器。为了优化反应速率，这种反应堆的工作原理是将反应气体引入反应堆室内，然后将反应气体加热到预定的温度和压力。一个充满惰性粒子的反应室被用来吸收反应气体分子，进而触发一系列化学反应，将一层薄膜长到底物表面上。AMAT P-5000反应堆采用闭环炉式设计，保持温度稳定，可精确控制沉积过程。腔室的工作原理是将反应气体引入要加热和加压的空间。然后利用室内施加的功率和压力来操纵反应速率，进而影响薄膜的沉积速率和质量。腔室的温度范围和压力范围都可以由使用者设定，允许精确控制腔室内的化学反应。应用材料P 5000还具有气相聚类系统，用于控制颗粒的定向沉积，并消除在腔壁上堆积的任何物质。此外,还设计了支持脉冲的蚀刻系统,以提高薄膜表面光洁度的质量。P5000能够加工各种材料，包括金属、无机物、有机物和氧化物。由于薄膜正在沉积，反应堆还能实时监测过程，让用户控制和调整腔内的条件，比如薄膜的速率和质量。这样可以确保更好的薄膜质量,并防止材料堆积在腔室的墙壁.P 5000反应器具有良好的温度均匀性、均匀的沉积速率以及对薄膜厚度的稳定控制。这种反应器经常用于薄膜研究、半导体制造和薄膜太阳能电池制造。