二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9294424 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Reactor是一种高性能、先进的沉积设备，设计用于半导体和太阳能行业。它允许薄膜的沉积，如SiO2、SiN、Al2O3、TiOx等介电材料，以及金属膜和层，如​​的，和钛，产生广泛的半导体产物和太阳能电池。AMAT P-5000反应堆由一个放置基板支架的集群平台和一个容纳沉积材料的ALD室组成。集群平台具有可调节的高度和倾斜角，以确保沉积的最大均匀性，并保持所需的涂层厚度。ALD腔室包含一系列可调节的区域,可设置为所需的压力、温度和沉积所需的前体。这个腔室还装有一个RF同轴板，提供RF电源，并允许稳定、均匀的处理。应用材料P 5000反应堆利用多项先进技术确保最佳沉积结果。多平台映射（MPM）功能允许有效匹配基板之间的沉积参数。这种映射特征还产生了每个基板的高均匀性沉积速率。Choreographic Gated Delivery （CGD）功能可精确分散并向沉积区域输送前体,从而能够精确控制薄膜厚度。FueliCom反应堆控制技术允许对时间、温度和压力进行更精确的监测，而自动对焦系统则提供导电模式和层的高精度沉积。AMAT/APPLICED MATERIALS P 5000 Reactor也提供了更高的生产率,具有各种基材尺寸和薄膜厚度的能力。可变特征集允许保形层均匀沉积，薄膜应力最小。此外，AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 Reactor可以在多种模式下连续或脉冲运行，并提供均匀的薄膜性能。用户友好、菜单驱动的软件可与外部应用程序集成，以进一步控制和监控。综上所述，P 5000反应堆是设计用于半导体和太阳能工业的先进沉积装置。它采用多平台制图、编排门控输送、燃料反应堆控制、自动对焦和用户友好的菜单驱动软件等多种先进技术，为薄膜和金属层提供精确控制和均匀沉积。这台机器是生产各种半导体产品和太阳能电池的理想选择。