二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9294470 待售

ID: 9294470
晶圆大小: 6"
优质的: 1988
TEOS CVD System, 6" 1988 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是为工业用途而设计的化学气相沉积(CVD)反应器。该反应堆为各种半导体、LED和平板显示器制造应用提供了关键的支持技术。它是一个单晶片或双晶片的四室反应器,具有旋转的磁化器,能够沉积介电、半导体和金属薄膜。反应堆装有机动化晶片载体,能够根据需要加速或减慢其旋转速度。两个载荷锁将多达两个工艺晶片的先入先出(FIFO)载入四个感应加热室。晶片载流子的运动保证晶片两侧的精确加热。腔室通过四个相同的感光器加热,每个感光器由一个调节旋钮供电。这样可以精确控制每个腔室的温度。该工艺气体由单一工艺供气歧管供应。通过两个电容压力计对工艺运行压力进行电子监测,以实现最佳真空控制。AMAT P-5000反应堆还具有自我诊断功能和数据记录功能。晶圆传输通过照相机系统进行跟踪和监控,照相机系统将晶圆跟踪数据记录在反应堆控制器的内存中。此外,APPLIED MATERIALS P 5000通过在晶圆的整个表面上提供均匀沉积,允许各种工艺配置。P-5000设计灵活可靠,反应堆可与SiN、AlN、SiO2、CET和钨等多种材料配合使用。APPLICED MATERIALS的高吞吐量、短周期时间和可靠运行P5000使其成为工业规模生产薄膜的经济高效选择。
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