二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9296351 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一种通用的高性能化学气相沉积（CVD）反应器设备,用于硅基薄膜的高级沉积。AMAT P-5000是具有双室配置的水平反应堆。它是为需要精确控制温度、压力和流量的高级沉积过程而设计的。该系统具有一个用于加工室负载锁定的顶室和一个用于负载锁定控制和晶圆传输的底室。APPLIED MATERIALS P 5000具有先进的可管理性功能,包括自动化过程、高温能力和低压操作以及精确的过程参数。它可以与标准的Silicon CVD工艺气体一起操作，并具有可选的300 mm兼容性。综合气体管理控制反应温度，能够进行详细的可重复温度监测和均匀性控制。该单元还有一个专利的热限制壳设计，消除热分层。AMAT/APPLICED MATERIALS P-5000的加热外壳设计为通过允许在两个腔室中的每个腔室中独立控制工艺气体的温度和压力来提供最大程度的工艺性能重复性。它还具有上游压力调节以及内置的湿式/干式真空机。P 5000具有自动化配方控制、远程可编程流程参数和联网能力等高级流程控制，用于监控和控制工具状态和流程参数。它还具有对负载锁定和晶圆传输系统的实时监控功能。综合气体管理资产、高温能力和低压运行都提供了更高的效率和重复性。最后,P-5000具有安全功能,如紧急关闭、可听和可视警报以及安全的数据传输。该模型耐用可靠，易于维护，是溅射、CVD等先进沉积工艺的绝佳选择。