二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9308744 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一种化学气相沉积（CVD）反应器，设计用于高容量生产外延和同外延基板以及宽带隙半导体器件，如碳化硅、砷化的和InP。该设备利用AMAT扩散和化学反应过程将薄的保形材料沉积在底物上。AMAT P-5000是一种高容量系统，每小时最多可产生1000个晶圆，设计用于生长宽带间隙基板。它利用反应区、扩散区和气体区，允许形成六边形外延晶体。通过控制大气压力、工艺温度和流量，APPLIED MATERIALS P 5000能够生产出薄膜和同外延层。APPLICED MATERIALS P-5000利用具有预反应区和主反应区的两区工艺。在预反应区，气体以特定的流量和温度引入。生成的等离子体将分子分解成较小的碎片，然后转运到反应区。在反应区中，碎片以薄而保形层的形式沉积在底物上。流量也根据需要向上和向下增加,以便进行最佳的处理控制。P5000反应器还具有数字温度控制、压力控制和射频匹配功能，可以精确控制工艺参数。开放式腔室设计还有助于确保不同的气体和化合物可以用于特定的应用。该单元通过了防静电部件的最佳安全性认证,以提高可靠性。AMAT/APPLICED MATERIALS P 5000是一种通用、高效的工具,用于种植先进材料。通过控制大气压力、工艺温度和流量，机器可以可靠地生长出适合半导体器件的优质基材和材料。通过精确的控制和增强的安全功能，AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000可以提供实现下一代技术所需的高性能材料。