二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9311420 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一种化学气相沉积（CVD）反应器，通常用于在半导体或相关基板上沉积薄膜。它采用低压或真空的CVD系统，将前体气体引入到工艺室内，与基板发生反应，以便沉积所需的薄膜。AMAT P-5000设计可同时容纳多达八个单晶片基板，并且可以配置各种组件，允许特定的工艺要求。加工室由铝构成；使用石英视口，在加工过程中对基板进行目视检查。该室还配备了抗热电子沉淀源，以及淋浴头组件。电子沉积源为基板提供了发生该过程所需的能量，而淋浴头组件则被用于各种各样的预处理和后处理程序，包括预清洗、等离子体蚀刻和后清洗。该腔室还包括用于控制将前体气体引入工艺腔室的质量流量控制器（MFCs），以及用于保持优越工艺均匀性的石英衬里。APPLIED MATERIALS P 5000的控制器是一个单板电脑系统，具有5英寸、彩色VGA显示屏、鼠标和膜键盘，允许用户输入命令。它还包括100多种食谱，这些食谱能够储存食谱以备日后召回。AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000能够沉积广泛的材料和薄膜，包括介电材料如氧化铝、氮化物和氧化物。此系统也用于沉积铝、镍、钛等金属。除此之外，P 5000还可以配置为处理有机金属气源。最后，AMAT P5000是薄膜沉积的重要工具，在半导体工业中得到了广泛的应用。AMAT/APPLICED MATERIALS的各种组成部分P-5000允许出色的过程均匀性和控制性,以及处理多种不同类型材料的能力。