二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9313502 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一种高功率、高产量的等离子体蚀刻室，设计用于先进的光刻和半导体工艺。这种等离子体蚀刻室用于精确蚀刻各种材料，包括金属、聚合物、电介质。它可以在高达50 mBar的温度和高达500 °C的温度下运行,从而实现高度精确的蚀刻,从而可以精确控制蚀刻轮廓。AMAT P-5000彻底改变了蚀刻工艺，为复杂的微电子元件提供了精确的蚀刻，产量更快。APPLICED MATERIALS P 5000的主要优点在于其高功率源与精确腔室设计的结合。反应堆采用高功率、全站式等离子体源，具有广泛的频率能力。这允许通过控制射频频率和施加磁场来精确控制特征的蚀刻速率和形状。此外，使用先进的气体溷合和压力控制保证了蚀刻深度均匀度高达+/-1%。P5000还拥有在反应堆内保持精确温度的能力。腔室采用闭环水系统冷却，允许严密的温度控制，保证目标区域的均匀蚀刻。这也有助于增强目标材料的安全性，防止腐蚀和其他与反应有关的损害。APPLIED MATERIALS P-5000包括许多集成的传感器和诊断工具,可实现快速、轻松的过程控制。可以实时监控和调整过程参数的控制,使用户能够轻松微调蚀刻过程以获得最佳性能。凭借尖端技术和坚固的设计,P 5000是一种先进的反应堆,能够实现卓越的蚀刻工艺性能和精度。从小型电子元件到大型设备和系统,AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000为高产蚀刻提供了可靠、经济高效的解决方桉。