二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9351563 待售
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已售出
ID: 9351563
晶圆大小: 8"
优质的: 2000
CVD System, 8"
Chamber A / B / D:
Type: DCVD Universal
Process: Delta / TEOS
Process kit: Plasma C-Chuck
Manometer: Dual 20-1000 Torr / MKS
Clean method: RF Clean
Throttle valve: Direct drive dual spring W/C plug
Gas box MFC: UNIT MFC
Lamp driver
RF Match: Phase IV
Chamber C:
Process: Sputter etcher
Standard process kit
Manometer: Single Torr / MKS
Clean method: RF Clean
Standard throttle valve
Gas box MFC: UNIT MFC
21-Controller slots
Floppy Disk Drive (FDD), 3.5"
Robot type: Phase III
Auto-load / Unload cassette handler
Silicon-Tin-Oxide (STO) elevator type: 15-Slots
WPS Sensor
I/O Wafer sensor
Loadlock purge
Loadlock slow vent
Slit valve type: ZA Slit valve
Hot box version: Version IV
Top / Standard exhaust line
(28) Gas line panels
Mini controller
Missing parts:
Turbo pump (Chamber C)
RF Match (Chamber C)
SBC Board
Video board
Ampule
RF Generator OEM 12B I, II
2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000反应堆是一种坚固、高性能的生产工具,其设计目的是使材料从合金到氧化物再到电介质的沉积具有完整的表面覆盖和优化的微观结构。该反应堆由具有脉冲电子束和高效电离器的高效源提供动力，能够产生高沉积速率，具有高度覆盖和均匀性。AMAT P-5000反应堆具有集成的高功率脉冲电子束（PEB）,可均匀减速离子,在广泛的蚀刻过程中均匀覆盖,为深层结构提供完整覆盖。PEB还允许在沉积过程中对材料进行高温退火，从而改善金属键合和更好的材料性能。一种可调节的双方向端-输液电离器允许对离子种群进行微调，从而实现有效的离子轰击和均匀覆盖底物。APPLIED MATERIALS P 5000是一种高通量、高性价比的反应堆系统，应用范围广泛。适用于微电子学领域的一系列工艺，包括电介质沉积、金属蒸发、金属镀层等。该反应器也非常适合沉积有机、无机和溷合膜，如绝缘体、导体和其他类型的底物。此外，该反应器适用于硬质和软质退火过程，以改变基板的性能和微观结构。P-5000反应器采用多级设计，能够在沉积前对晶片进行高速清洗，蚀刻完成后对晶片进行干燥，从而提高加工质量。该系统还包括一个专用的等离子体监测仪，以确保对腔室参数进行高效和准确的控制。此外，APPLIED MATERIALS P-5000利用气体面板，使用户能够使用各种气体进行校准或室内清洁。高效P5000反应堆非常适合在广泛的应用中进行生产水平的操作，并得到AMAT广泛的技术支持、培训和服务的支持。P 5000是需要高质量、可靠和可重复结果的半导体制造过程的理想解决方桉。
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