二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9356942 待售

ID: 9356942
晶圆大小: 8"
PECVD System, 8" Nitride PARC (4) CVD Chambers Wafer sense Robot Storage elevator Ergo cassette loaders UNIT 1660 Mass Flow Controller (MFC) RF Matching network Lamp modules Electrical / Pump rack RIF Rack (2) EDOCS With rack Mini controller Monitor rack Heat exchanger Cables Missing parts: Process kits Mouse.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一种先进的等离子体增强型化学气相沉积(PECVD)设备,用于各种应用的薄膜和材料沉积。该系统采用微波等离子体源和水冷淋浴板,产生多晶硅、氮化硅、氧化硅等厚度控制精确的材料均匀保形膜。AMAT P-5000利用一台远程微波发电机和一个独特的高级能源输送装置(Advanced Energy Delivery Unit, AEDS)精确控制电力、压力和气体输送到PECVD室。微波源由2.45 GHz至2.75 GHz的各种频率组成,允许最佳膜沉积条件。AEDS的设计使微波功率、射频功率和气流保持精确和恒定,与腔室压力无关。APPLICED MATERIALS P 5000反应器本身就是一个石英室,在大面积上提供极好的均匀性。该工艺室设有一个完整的外壳和自动调谐机,以确保精确的压力,温度和射频匹配。P 5000还具有一个大型扁平样品支架,可容纳直径不超过8英寸、厚度不超过1/2英寸的基板。工艺时间由APPLIED MATERIALS P-5000工具软件控制,可精确控制薄膜沉积速率、气流、压力和温度。AMAT P5000适用于低温高温沉积过程中的多种应用。可用于生产多晶硅、氮化硅、氧化硅等薄膜,用于半导体器件制造。其精确的控制和均匀性产生高保形和极光滑的薄膜,高质量和可靠的性能。AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000是研发、工艺开发和生产使用的理想工具。
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