二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9377275 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一种用于金属介电沉积应用的反应器。AMAT P-5000具有四室蒸汽输送设备,可提供复杂、高长宽比工艺所需的趋势设定灵活性和卓越的长期性能。APPLICED MATERIALS P 5000具有多种先进的特性,如集成过程调节器、四重存储高真空多腔涡轮泵/充电器以及用于数据采集和过程控制的Allen-Bradley PLC控制器。P5000利用高功率射频和直流电源,能够沉积在各种晶片上,包括虚拟晶片、最多晶片和涂膜晶片。该系统还包括一个可编程的数字用户界面，允许用户设定所需的薄膜厚度和操作温度范围。AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000还提供了多个可编程的射频频率,以优化不同集成方桉的过程。P-5000有一个由涡轮泵/充电器、惰性气体喷射歧管、渗透歧管、反应性气体喷射歧管和反应室组成的四室蒸汽输送装置。这种安排提供了对沉积速率和工艺一致性的最大控制。渗透和反应性气体注入歧管使AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000能够沉积厚度均匀、覆盖范围优良的金属和介电层。反应室采用精确控制的多区加热元件加热，确保整个沉积过程温度均匀。为进一步确保过程控制，应用材料P5000包括集成光学高温计和防护屏蔽的机器。光学高温计测量反应室内的热量，以确保工艺温度保持在临界规格内。屏蔽有助于保护基板和加工气体免受工具内任何产生的放电。P 5000提供了一整套工艺工具，以适应专门的基板、设计规则和工艺要求。该资产为特殊晶片类型提供了额外的基材处理工具，以及用于氧化保护、工艺均匀性和颗粒控制的多种保护涂层。该模型还提供端点控制工具，以限制反应温度，防止污染和提高可重复性。综上所述，APPLICED MATERIALS P-5000专为金属介电沉积应用而设计，具有四室蒸汽输送设备和先进的功能，如集成过程调节器和可编程用户界面。该系统还包括多个射频频率和集成的光学高温计以及保护屏蔽，以确保过程控制。该单元提供了额外的工艺工具，以适应专门的基板、设计规则和工艺要求。