二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9383379 待售

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ID: 9383379
CVD System SNNF, 8" Wafer shape: 25-Slot SNNF Main frame: Loadlock: Standard Buffer chamber robot: Standard Process chamber (PECVD): Position A, B and C Cassette stage: Position: A and B Clamp on cassette 25-Slots Storage elevator: Center find 4-Slots Buffer chamber: Buffer type: Standard Load lock : Slow and fast Vent type: Venting and diffuser Load lock pumping type: Fast load lock pumping Slit valve: Bonded Wafer detector: Blade cap and vac sensor Gas / Pressure: Gas feed: Top Filters: MILLIPORE / PALL Pneumatic valves: Nupro / Veriflow Chamber pressure gauge: MKS 10 Torr Chamber foreline TC gauge: VARIAN Gas for chamber A: Gas / MFC SiH4 / 500 sccm N2 / 100 sccm N2O-H / 3000 sccm NF3 / 20 sccm N2O / 300 sccm Cl2 / 100 sccm Gas for chamber B: Gas / MFC SiH4 / 500 sccm N2 / 100 sccm N2O-H / 3000 sccm NF3 / 20 sccm N2O / 300 sccm Cl2 / 100 sccm Gas for chamber C: Gas / MFC O2 / 00 sccm CF4 / 20 sccm Ar / 100 sccm RF Generator and heat exchanger: ENI OEM-12B RF Generator: Chamber A and B ENI OEM-6 RF Generator: Chamber D RF match type: Phase-VI (2) RF Cable: 50ft CVD Heat exchanger type: AMAT-1 Heat exchanger signal cable: 32ft System local monitor: CRT with light pen Remote control cables (Analog, digital): (2) 50 FT Etchers Lift assembly Susceptor lift assembly Transfer robot Slit valve cylinder Wafer lift bellows Susceptor lift bellows Robot blade, 8" Throttle valve (Dual spring type) Belts in throttle valves DC Power cable: 50ft EMO Cable: 50ft Hard disk in VME Missing Power supply: 208 V, 50/60 Hz, 250 A / 5-Wires.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一种等离子体CVD反应器,用于一系列材料层的表面改性和沉积。AMAT P-5000采用的等离子体CVD技术是一种低压工艺,利用用等离子体电离的气体溷合物产生表面改性所需的反应和沉积。进行过程的容器是用不锈钢建造的,采用双壁方式,以确保均匀的压力和温度控制。腔室装有一个足以满足各种工艺需要的组件,布置在一个集成的电极上。然后容器内部被密封,泵开始清除空气和其他气体,在密封容器内产生真空。等离子体的产生是通过在容器部分以高速和低压引入所需气体的溷合物来实现的。使用射频发生器和电感线圈产生真空。气体的溷合物随后被磁力产生的高能场电离。这种等离子体提供了高浓度的电子和离子,它们可以分解分子并与容器中的成分发生反应。APPLICED MATERIALS P 5000因其灵活性和坚固的设计而闻名,因为它可以容纳多种组件形状和尺寸。P-5000可实现的工艺包括氮化、蚀刻和硅沉积等。此外,该系统可以作为各种掺杂过程的注射器。APPLIED MATERIALS P-5000的多功能性使其成为许多工业和学术界研究实验室的主力军,其产生高质量结果的能力使其成为众多表面改造需求的首选。AMAT P5000是一种高效、耐用和可靠的解决方桉,用于改善材料表面和组件的整体性能。
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