二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9384772 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是为纳米材料的高性能沉积而设计的下一代化学气相沉积（CVD）反应器。该反应器能够在高达500 °C的温度下进行单晶片处理，同时在晶片表面提供具有均匀温度的低热质量。AMAT P-5000提供具有独立热调节和冷气辅助装置的4区垂直反应堆设计。应用材料P 5000具有两级加热淋浴头，使反应物分子均匀扩散到整个沉积室中。喷头由垂直堆叠的冷却袋组成，可确保反应物分子均匀分布在晶圆表面。此外，P5000的热控设备设计为实现高温均匀性和稳定性，以达到一致的工艺效果。它的可编程控制界面允许调整反应物组成、压力和温度设置。AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000反应堆的快速加工能力是通过使用快速气体控制系统实现的。该单元允许精确调整气体流速，从而以更高的吞吐量速度实现更快的工艺时间。此外，为确保均匀性和可重复性，P-5000配备了清除循环，以冲洗沉积室产生的不需要的污染。这样既节省了成本,又提高了过程的可靠性。在安全性方面，APPLIED MATERIALS P-5000的设计符合最严格的标准，包括ASHRAE Class A/B、NFPA Class 1和UL 945。反应堆包括防爆机和气体探测系统，以保护人员和设备免受潜在危险的过程气体的影响。AMAT P5000反应器适用于多种材料，包括石墨烯、层状材料和碳纳米管。当使用ADM双冷却工具进行配置时,AMAT P 5000可提供更大的温度范围和更复杂的沉积过程控制。这允许生产高纯度和面向性能的纳米材料。总体而言，应用材料P5000 CVD反应堆为纳米材料的高性能沉积提供了可靠、经济高效的解决方桉。通过精确的温度控制和快速的反应时间相结合，P 5000可以帮助制造商满足当今最艰难的半导体制造工艺的需求。