二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9389400 待售
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ID: 9389400
晶圆大小: 6"
CVD System, 6"
SV21 SBC Board
Main frame type: Mark-II
Cassette indexer, 6" Clamp
8 Slots elevator
(2) CRT Monitor
Robots: Phase-III
Robot blade: Standard vacuum
Centerfinder: USE
Cap wafer sensor
AC Rack: 1 Shrink
Heat exchanger
EMO Option: Turn to release
EMO Button guardrings
Status light tower (Color / Position): Red, Yellow, Green, Blue
Signal cable: 25'
Flash hard disk drive
Floppy: 3.5" SCSI Driver
Gas panel: 12 Channels standard / Minicontroller
RF Generator:
Chamber A: OEM12B-07
Chamber B: OEM12B-02
Chamber C: OEM12B-02
Chamber:
Chamber position: A, B, D
Chamber type: DLH 1-Hole
Process: SiH4 Oxide
Heater type: Lamp
Susceptor type: Al
(3) Matchers
Delta nitride dual spring throttle valve
Gas panel: 20 Standard channels
Gas supply: Top down
MFC: SEC4400MC
Manual valve: NUPRO
Pneumatic 2-Way valve: NUPRO
MKS 122B Baratron gauge, 10 Torr
Gases:
Gas / Range
N2 / 3 SLM
SiH4 / 100 SCCM
CF4 / 2 SLM
N2O / 2 SLM.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一种薄膜反应器设备，设计用于将薄膜沉积在诸如玻璃或硅片等基板上。该反应室的设计目的是在很宽的温度范围（-40至650 °C）内对从超高到超低真空水平的一系列沉积条件进行高级控制。它位于清洁室内,配有精密的热管理系统,可进行精确的热控制,使其能够满足要求最苛刻的薄膜处理应用。该单元旨在控制与薄膜生长有关的几个变量。这些变量包括压力、温度、沉积速率和生长。AMAT P-5000反应堆使用超高真空沉积室，该室配有气体溷合工具、质量流量控制器、电容压力计和FTIR机。它还包含线性和旋转源，如电子束蒸发器和溅射枪。此外，腔室有粗加工泵、涡轮分子泵、离子泵，以及液氮闭环冷却器，以营造薄膜可以生长的环境。APPLICED MATERIALS P 5000反应器还配备了一系列工艺特点，使其适合广泛的薄膜加工应用。值得注意的特点包括膜厚度自动控制、温度映射、温度剖析、均匀性控制和实时过程监控。这些特性可以配置为确保薄膜的均匀性和应力。\AMAT/APPLICED MATERIALS P 5000的自动化能力使其适合多种应用。特别是它被用于沉积氧化物、氮化物和金属，以及蚀刻薄膜和进行材料的钝化和烧蚀。此外，由于其精确的压力控制，适用于薄膜沉积的非蒸发方法，如磁控管溅射和CVD。最后,APPLIED MATERIALS P5000是一种易于操作的工具,具有高级安全功能。它配备了气体泄漏探测器、紧急关闭资产，并对操作参数进行严格监控，以符合最严格的安全规定。
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