二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9389401 待售
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ID: 9389401
晶圆大小: 6"
CVD System, 6"
SV21 SBC Board
Main frame type: Mark-II
Cassette indexer, 6" Clamp
8 Slots elevator
(2) CRT Monitor
Robots: Phase-III
Robot blade: Standard vacuum
Centerfinder: USE
Cap wafer sensor
AC Rack: 1 Shrink
Heat exchanger
EMO Option: Turn to rekease
EMO Button guardrings
Status light tower (Color / Position): Red, Yelow, Green, Blue
Signal cable: 25'
Flash hard disk drive
Floppy: 3.5" SCSI Driver
Gas panel: 12 Channels standard / Minicontroller
RF Generator:
Chamber A: OEM12B-02
Chamber B: OEM12B-02
Chamber C: OEM12B-07
Chamber:
Chamber position: A, B, D
Chamber type: DLH 1-Hole
Process: SiH4 Oxide
Heater type: Lamp
Susceptor type: Al
(3) Matchers
Delta nitride dual spring throttle valve
Gas panel: 20 Standard channels
Gas supply: Top down
MFC: UFC-1660
Manual valve: NUPRO
Pneumatic 2-Way valve: NUPRO
MKS 122B Baratron gauge, 10 Torr
Gases:
Gas / Range
N2 / 3 SLM
SiH4 / 100 SCCM
CF4 / 2 SLM
N2O / 2 SLM.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000反应堆是半导体工业中用于提高工艺性能和监控器件可靠性的高质量可靠工具。这类反应器通常由离子源、加工室和电子枪组成。离子源用于产生受控等离子体，用于将材料沉积在工件表面。工艺室充当反应室，其中等离子体被修改为所需的工艺条件。这是通过控制气流、压力、功率和其他参数来实现的。电子枪是一种强大的电子束，用于物理修饰被处理材料的表面。AMAT P-5000反应堆的主要特点是能够提供精确和可重复的处理结果，以及能够进行敏感的过程监测。这类反应堆依靠多通道反馈系统和先进的自动化软件来确保一致、可重复的结果。这类反应堆还有一个先进的诊断系统，可以监控组件的状况，从而可以更有效地利用资源。APPLIED MATERIALS P 5000反应堆相对紧凑坚固，非常适合在恶劣环境中使用。它还具有一个集成的诊断系统,可监视和记录整个过程中的数据,从而实现高效的操作、故障排除和维护。此外,该设备还提供安全的工作环境,具有防止和监控意外过热或电源关闭的安全功能。P5000反应器非常适合在半导体工业中的各种应用，并且经常用于沉积和蚀刻过程。它能够处理具有高电性、热性和光学性能的基板，使其适用于包括聚合物、陶瓷、金属和复合半导体在内的一系列材料。再者，反应器可用于广泛的过程，如离子注入、PECVD、溅射以及多种化学蚀刻应用。总之，APPLIED MATERIALS P5000反应堆是半导体工业中使用的一种先进、可靠、精确的工具，用于提高工艺性能和实现更精确的监控。它具有多种功能,非常适合各种应用程序,可提供精确和可重复的结果、精确的监控,以及在安全的工作环境中运行可靠。是半导体工业精密加工的理想选择。
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