二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9392286 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Reactor是一种高性能仪器,旨在帮助用户在微电子、数据存储和光学行业中建立精确的金属沉积参数。AMAT P-5000反应堆提供精确、均匀和可重复的沉积过程控制.它配备了一个集成的真空设备，允许卓越的温度均匀性和层特性。应用材料P 5000反应器装有交替偏置电压沉积源.这会在连续的时钟周期内在负电荷和正电荷之间交替沉积基板，这有助于在整个层中实现均匀的薄膜覆盖和均匀的晶粒尺寸。此外，在沉积室中加入惰性气体，以减少颗粒粘附，并通过协助颗粒均匀分布来实现更大的覆盖一致性。P-5000反应堆的高级位置控制允许单个晶片或目标基板相对于源精确移动。这样可以在晶片上均匀分布温度，并有助于确保整个晶片上的高质量沉积。该系统采用质量流控制器和PID控制器设计，可实现自动沉积控制和精确温度调节。应用材料P5000反应器的设计采用低热预算选项，以最大程度地减少沉积过程中施加在晶片上的热应力。这有助于减少翘曲和其他对晶片的损害。通过使用先进的控制单元，AMAT P5000反应堆有助于自动化和降低沉积过程的复杂性。P5000反应堆适用于多种沉积技术，包括化学气相沉积（CVD）和物理气相沉积（PVD）。它还配备了一个实时监测机器，可以分析整个沉积过程，跟踪刀具性能和分析各层的工艺配方。这有助于用户优化操作、减少停机时间并改善整个过程控制。总之，P 5000反应器是一种高性能仪器，具有精确的过程控制，产生均匀且可重复的沉积过程。其先进的控制系统有助于自动化和简化沉积过程，而其低热预算能力有助于减少放置在晶片上的热应力。这有助于确保高质量的沉积以及提高工艺稳定性和优化。