二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9396227 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一种以半导体为中心的PVD（物理气相沉积）反应器。它是为包括溅射和源沉积在内的半导体加工而设计的。这类反应器是一种真空室，用来将材料的薄膜沉积在基板上。该系统由工艺室、高真空泵、加热元件和控制计算机组成。AMAT P-5000的工艺室是涂覆绝缘材料的圆柱形金属结构。它的内径为250毫米，并配有一个工艺线圈磁铁，用来使溅射材料电离，提高沉积膜的附着力。加工室使用陶瓷加热元件加热，可达到高达1000 °C的温度。高真空泵允许腔室排空到0.1 torr或更小的压力。一旦腔室被排空，就会使用惰性气体，例如氙气，在腔室内创造一个干净稳定的环境，以确保薄膜以均匀的方式沉积在基板上。该工艺气体，通常是氧气，也被引入腔室，以帮助消除碳污染并提高薄膜的均匀性。控制计算机负责控制过程参数和监控整个系统。它允许对工艺功率、腔室压力、温度和气体流量等参数进行精确控制。这允许用户实现对所需影片的精确控制，包括针对非常具体的规格的影片。APPLIED MATERIALS P 5000是一种高效、高性能的反应堆。具有较高的沉积率和良好的阶跃覆盖率和均匀性。它具有精确的工艺控制和清洁的操作环境，是各种溅射和源沉积应用的理想选择。