二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9400331 待售

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ID: 9400331
优质的: 1990
CVD System 1990 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000反应器是一种离子植入设备,设计用于将掺杂离子植入底物或其他材料中。此过程用于修改半导体材料(主要是硅)的电气行为。AMAT P-5000是一个分裂型反应器,有一个封装的离子源和加速设备位于一个单独的外壳。这种配置允许植入室,其中包含基板,安装和操作在惰性气体环境。APPLIED MATERIALS P 5000反应器有多个来源,允许它将不同的离子牵连到底物中。在典型的构型中,使用轴向真空离子枪将硼、砷或磷离子植入基质中,并使用端置平面离子枪植入氙离子。装置的最大植入能量为1000keV,光束电流为200μA。此外,P 5000的剂量精度约为1%,调整范围很广。APPLICED MATERIALS P5000配有自动调节高度的基板阶段,允许基板在植入前升高或降低。此外,基板级的高度和倾斜度可以精确控制,该装置包括先进的光束加热系统,以减少植入不稳定的风险。AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000包括一些安全功能,以确保设备安全可靠地运行。其中包括在植入室压力超过一定极限时关闭的失效安全快门单元,以及压力和温度报警器。再者,所有植入参数都在植入过程中被自动监控和记录,使反应堆得以远程操作。总体而言,AMAT P 5000是一种功能强大、用途广泛、安全的离子注入反应器,可用于修改半导体材料的电性能。其各种安全特性,如故障安全快门机和自动监控,确保其操作安全可靠。此外,其可调基板级和光束加热工具进一步提高了其功能和性能。
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