二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9400379 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
ID: 9400379
CVD System.
AMAT或AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一种化学气相沉积(CVD)反应器,用于薄膜沉积,由一个加热室组成,带有石英窗和淋浴总成。该设备中的CVD工艺在两种气态化学物质之间产生化学反应,从而在底物上形成薄膜。AMAT P-5000设计用于自动化、用户友好的系统中的高吞吐量和生产率,使其成为生产使用的理想选择。反应堆由涡轮泵送机组提供动力,提供低压、高泵送速度和高气流的多功能组合。这使得更高的沉积速率和提高产量的各种薄膜应用。反应堆由一个主真空室、一个石英窗和一个加热器箱组成。真空室由不锈钢构成,在腔壁周围有几种形式的绝缘。墙壁使用密封焊缝相互连接,以减少热量损失,并确保良好的密封环境。腔室配有涡轮泵机,用于维持腔室内的低压,为薄膜沉积创造最佳环境。反应堆上的石英窗口被设计为使气体的入口保持一致,并使整个基板表面的温度均匀。石英窗还用于保护基板免受温度和颗粒污染,保持基板表面清洁,不受污染。加热器箱用于维持腔室内部的一致温度。温度可以手动调节,也可以通过计算机控制模块调节。加热器通常由两个元件组成,其中一个是加热元件,另一个是传感器网格。此外,APPLICED MATERIALS P 5000还包括一个淋浴手臂,用于在薄膜沉积过程中方便地将基板固定到位。喷头用于确保气体化学物质均匀分布到基板上。它还通过将气流均匀地分配到均匀的圆形图样上来提高薄膜的均匀性。所有这些组分结合起来创建应用材料P5000,一个革命性的薄膜沉积反应器。该工具为用户提供了一个可靠和自动化的平台,以实现大型和小型基板的高沉积吞吐量。它多才多艺的设计也使得它成为生产和研究环境的好选择。利用AMAT P5000,应用材料正在为下一代薄膜沉积系统设定标准。
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