二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9402081 待售
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ID: 9402081
晶圆大小: 6"
CVD System, 6"
Robots: Phase-III
Standard O-Rings
8-Slots elevator
(2) CRT Monitors
AC Rack: 1 Shrink
Heat exchanger
PROTEUS Water flow sensor
Flexible water hose
Status light tower (Color / Position): Red, yellow, green, blue
Signal cable: 25"
Hard Disk Drive (HDD)
Floppy Disk Drive (FDD), 3.5"
Mini-controller
RF Generator:
(2) ENI OEM12B-02
ENI OEM12B-07
Chamber:
Chamber position: A, B, C, D
Chamber type: DLH 1-Hole
Process: SiH4 Oxide
Heater type: Lamp
Susceptor type: AL, 6"
(4) Matchers
Delta nitride dual spring throttle valve
Delta nitride isolation valve
Gas panel: 20 Standard channels
Gas supply: Top down
MFC: SEC 4400MC
Manual valve: FUJIKIN
Pneumatic 2-Way valve: FUJIKIN
MKS 122B Baratron gauge, 10 Torr
Gases:
Gas / Range
N2 / 3 SLM
SiH4 / 100 SCCM
CF4 / 2 SLM
N2O / 2 SLM.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000反应器是一种用于制造微电子器件的沉积室。它是一种高真空室，用于将各种材料的薄膜沉积在基板上。该反应器能够沉积单层和多层薄膜，并能精确控制其物理和化学性质。该反应堆的腔室为圆柱形，基部呈圆锥形。由不锈钢、钛、复合材料制成。腔室采用涡轮分子真空泵排空，提供适合薄膜沉积的低压环境。腔室内装有一个锂硅（Si）crucible，由电子束加热。电子束对室内温度进行精确控制，从而可以精确控制沉积参数。该反应堆还配备了工艺质量流控制器，对进入腔室的物质流量进行精确控制。这样可以沉积不同厚度的不同层。此外，反应堆还配备了超高纯度气体分配系统，用于为沉积过程提供适当的反应性气体。反应堆装有负载锁，这是一种使样品能够根据需要装卸的机制。这样就可以在受控环境中安装和移动样品，从而减少污染。AMAT P-5000反应器效率高，为薄膜沉积提供了高质量的环境。它对工艺参数的精确控制和高效的装卸能力使其成为最受欢迎的沉积室之一。适用于微电子制造的广泛应用，可轻松融入现有生产线。
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