二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9408603 待售
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ID: 9408603
晶圆大小: 6"
Poly etcher, 6"
(3) Chambers: MXP +
(3) Chamber lid: Quick releases
(3) Pump stack: Non-heaters
(3) O-ring compound 513 CHEMRAZ and vitons
(3) MKS Torr process manometers
(3) B/H UPC: 50 SCCM He backside MFC's
(3) Pressure control type: Throttle valves
(3) Recessed end point windows
(3) Endpoint type: Manochromators
(3) AMAT RF Matches
(3) ESC Cathodes, 6"
(3) LEYBOLD TMP340 / SEIKO SEIKI STP-301C Turbo pumps
Robot and blade
Slot storage, 6"
Cassette indexer
MFC (Stec / Unit)
Gas filter
(3) Process kit / Part number
Polymide ESC, 6" / 0040-99952
Shadow ring / 0200-10243
Shadow ring / 0200-39347
Insulator pipe / 0200-10073
Lift pin / 0020-34040
SILICON Ring / 0200-35623
GDP / 0200-10246
Slit liner / 0020-34696
Cathode liner / 0020-34695
Chamber liner / 0020-34694
Componants:
AMAT
Neslap HX150
(3) ENI OEM12B RF Generators
(3) 0010-36162 RF Matches
(3) LEYBOLD TMP340 Turbo pumps (P/C)
(3) NT340M Controllers
(3) MKS Helium MFC
(3) 50 SCCM Full scales
(3) MKS 100 Torr manometer
(3) Simple cathodes, 6"
(3) Overhaul VAT Gate valves
(3) Baratron gauges
MFC (Stec / Unit ):
(3) CL2 / 200 SCCM
(3) HBR / 200 SCCM
(3) N2 / 500 SCCM.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一种水平、双晶圆、平行板等离子体增强化学气相沉积（PECVD）反应器。它旨在为用于半导体制造应用的高质量薄膜提供可靠的处理。AMAT P-5000是利用双晶圆-rf等离子体化学优势，通过较高的沉积速率和上层均匀性提供优越的薄膜供应的PECVD腔室。它是一种高性能的工具，能够生长各种薄膜，包括介电、蚀刻和屏障薄膜。APPLICED MATERIALS P 5000具有大面积的平行板设计,可不受限制地进入晶片,并具有适用于各种尺寸薄膜的大操作窗口。创新的等离子体屏蔽设计也消除了机械分流保护的需要。反应堆装有单个负载锁，可以方便地将晶片从储存或其他工具转移到APPLIED MATERIALS P5000。载荷锁、腔室和基板支架都被整合到反应堆中，从而允许一个更加统一和可靠的过程。晶圆架的设计目的是使腔室的加工循环数最小化，并在腔室中提供均匀的等离子体分布。APPLIED MATERIALS P-5000配备了强大的射频发电机，可产生高达5000瓦的射频能量。这种射频能量被用于制造等离子体，激活气体前体，以便在晶圆上产生高密度薄膜。反应堆还附有一系列工艺配方和各种控制器，提供一致且可重复的等离子体沉积过程。AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000体积小巧,易于安装和操作。它还配备了几个警报和过程监控系统，这些系统有助于确保进程正确运行并避免意外故障。AMAT P5000是高质量、高精度薄膜的理想选择，具有良好的薄膜均匀性和提高的产量。它具有高吞吐量，允许短处理时间，也能够处理高温过程。AMAT P 5000的设计和特点使其成为需要高性能薄膜的半导体制造商的理想工具。
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