二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9409079 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一种用于在半导体基板上生长薄膜的高性能工具。它是一个短弧等离子体、低压反应器，能够输送高纯度沉积。AMAT P-5000是一个两级系统，由等离子体源和超高真空波纹管室组成。沉积实验开始时，将玻璃样品放置在腔内，然后将其密封并排空至1 x 10-6 mBar或更低的压力。然后该源被激活，在源容器中的两个电极之间形成等离子体。一股选定的沉积前体随后被引入等离子体，等离子体释放出来的高能物质分子碎片轰击底物和样品表面。在Applied Material APPLIED MATERIALS P 5000中使用的等离子体是氙/氢溷合物，底物温度可低至200 °C至高至800 °C。腔室设计便于整个样品均匀沉积。膜沉积完成后，腔室通风，取出样品。应用材料P-5000是先进介电材料沉积的理想选择，适用于半导体集成电路工业中的元件制造。可以改变几个参数来优化沉积剖面，如温度和气体溷合物，以及沉积速率和薄膜厚度。该仪器准确、可重复，能够在几次沉积运行中获得可重复的结果。总体而言，AMAT P5000低压反应器是一种可靠灵活的装置，在半导体基板上提供高质量的薄膜沉积，具有出色的温度控制。其高的均匀性和精确的沉积剖面提供了可靠和一致的结果。该设备非常适合研究应用以及广泛的制造要求。