二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9409373 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000高纵横比蚀刻设备是一种可靠且用途广泛的反应器,非常适合需要高纵横比（HAR）蚀刻的晶片蚀刻应用。这种多用途系统可用于氧化物和多硅蚀刻等一系列应用。它能够在RIE（反应性离子蚀刻）或ICP（感应耦合等离子体）蚀刻过程中进行干湿蚀刻。AMAT P-5000具有易于使用的直观用户界面和7英寸触摸屏,可轻松操作、精确的过程控制和数据记录过程参数。APPLICED MATERIALS P 5000利用两个工艺室，为两种腔室类型配备了一系列模块，包括负载锁、基板加热和冷却，以及革命性的腔室设计，降低晶圆平面上的热梯度。蚀刻室具有平面和圆柱形静电卡盘功能,在整个蚀刻表面均具有卓越的均匀性。该腔室还具有较低的OTE损耗单元，可最大程度地减少碎片堆积，同时最大限度地提高晶圆吞吐量。该室还具有快门时间优化控制器，能够对等离子体蚀刻参数进行精细控制。AMAT P 5000还具有高效的气体输送机和新设计的带有先进速率控制工具的高浓度气体箱，允许用户精确控制过程气体。高稳定气弧（HSGA）特征通过最小化电弧变化导致更一致的蚀刻过程。先进的温度控制模块可确保晶圆平面的精确热均匀性,精度± 2摄氏度。AMAT P 5000的隔离特性旨在防止晶片受到反向电离粒子损伤的可能性，确保晶片受到适当的保护，免受蚀刻环境的恶劣条件的影响。该资产还包括一个高级配方编辑器,允许用户定义和存储多达250种配方,以满足各种应用程序的不同蚀刻要求。P 5000高纵横比蚀刻模型是需要一致高纵横比蚀刻的半导体制造和晶圆蚀刻应用的理想选择。它提供了最大程度的过程控制和可靠性,同时为蚀刻应用程序提供了经济高效的解决方桉。