二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9411333 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
ID: 9411333
TEOS CVD System.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一种强大的蚀刻沉积反应堆设备。这种多模块、生产规模的蚀刻沉积系统结合了一系列蚀刻和沉积模块,使半导体基板能够进行高质量的蚀刻和沉积。AMAT P-5000的综合能力为最具挑战性的工艺要求提供了先进的掩蔽、蚀刻和沉积解决方桉。APPLIED MATERIALS P 5000配备了多种蚀刻沉积工具和均匀系统。Autodep系列具有一组四个Autodep VEP蚀刻模块,可提供与其他系统相当的更高的蚀刻吞吐量和可重复属性一致性。Autodep VEP系列能够蚀刻200 mm大小的晶片。AMAT P5000还具有两个Matchline II沉积系统,可实现高达1000 mm ²/min的一致吞吐量。自动化的负载/卸载功能和板载安全功能可实现高质量、高吞吐量的性能。AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000还配备了一系列光学、湿法和等离子体蚀刻模块,所有这些模块都经过优化,可提供一致的蚀刻均匀性、更高的产量和更好的工艺周转时间。这些模块具有一系列的工艺室和均匀分析仪,能够在蚀刻、沉积和掩蔽过程中快速优化晶片。这些模块还附带了先进的工艺程序,实现了高效和可重复的半导体器件处理。除了蚀刻和沉积模块外,P-5000还包括一些面向生产的组件和工具。这包括一个高通量晶圆排序单元,集成晶圆跟踪机和集成晶圆检测工具。所有组件均设计为易于集成和设置,允许更高的迁移以实现最高性能。APPLIED MATERIALS P-5000还具有自动化的现场过程控制解决方桉。该集成过程控制套件结合了机器学习和实时过程监控,以优化产量和性能。总而言之,AMAT P 5000是一种生产规模的多模块蚀刻和沉积资产,设计具有满足最具挑战性的半导体器件处理要求的特性和功能。其全面的能力,加上集成的面向生产的组件,可实现更高的可重复性和效率,满足各种工艺要求。
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