二手 CANON / ANELVA L-400EK-L #9372506 待售

ID: 9372506
优质的: 2002
Deposition system Water volume: 0.3MPa 9L / min Pneumatic pressure: 0.55MPa Power supply: 200 V, 3 Phase, 50/60 Hz, 60 A 2002 vintage.
CANON/ANELVA L-400EK-L是一种为大规模生产而设计的自动溅射设备,结合了高精度溅射沉积技术和一个精密的真空室,成为一个高效的系统。其先进的设计提供了极好的均匀性,以极高的沉积速率沉积薄膜,低腔室泄漏率,极高的可靠性和低的维护成本。佳能L-400EK-L溅射装置由溅射室、溅射源、真空机和过程控制工具四个主要部件组成。真空室由不锈钢制成,能够达到超高真空,从而有可能高效地沉积出薄膜。该工艺室配有前泵、粗加工泵、离子源和涡轮泵。大容量的前泵有助于将真空迅速降低到所需的工作水平,而粗加工泵则在整个过程中保持恒定的压力。溅射源是大气型直流源,最大功率可调节至400kW。它配备了多达40支溅射枪,可以同时在各种基板上沉积薄膜。溅射过程具有很高的可重复性,并且在整个样品表面具有极好的均匀性。ANELVA L-400EK-L具有自动控制资产,可精确监测和控制溅射过程。复杂的控制模型使您能够根据所需的值精确控制参数和条件。设备也具有很高的适应性,可以适应溅射条件的突然变化,确保达到均匀甚至沉积。总体而言,L-400EK-L系统是一种高效可靠的大规模生产溅射装置。其先进的设计和精密的控制机使其成为高精度金属和半导体薄膜以极好的均匀性和沉积速率沉积的理想选择。其出色的性价比使其成为当今市场上最受欢迎的溅射系统之一。
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