二手 PERKIN ELMER 4400 #293585638 待售

PERKIN ELMER 4400溅射设备是将薄膜和涂层沉积到半导体基板上用于微电子和光电应用的高性能工具。它是一个单晶片负载锁定系统，配有RF或直流溅射源和标准双区电子回旋共振（ECR）等离子体蚀刻源。它有一个可容纳最多两个晶片的样本室，与4、5和6英寸的晶片尺寸相当。它允许真空范围高达2 x 10-5 Torr，工作压力为2 x 10-4 Torr，最大溅射温度高达500 °C。射频或直流溅射装置配有独特的可变离子屏蔽/磁阻尼机，能够准确监测沉积速率和剖面。因此，用户可以精确监控薄膜结构和要求，而无需手动调整晶片和溅射源之间的距离。溅射源可以倾斜，以提供在基板表面的最佳入射角。这样可以确保高质量的薄膜具有均匀的厚度和出色的附着力。ECR源提供了先进的等离子体控制能力,具有出色的蚀刻选择性、均匀性和各向异性特征.它提供了广泛的蚀刻化学方法，包括反应性离子和非反应性等离子体。此外，它还支持高速率离子溅射蚀刻，并提供高腔室均匀性。该工具配备了一台高性能的基于PC的计算机，具有图形用户界面，可以让用户控制流程和监控参数。它允许存储重复性能的配方,并提供高度的过程控制和完全集成的诊断。总体而言，4400溅射资产是一种先进的溅射沉积工具，为半导体器件制造提供下一代薄膜沉积和蚀刻工艺。它提供卓越的性能、准确性和可靠性,并允许用户获得更好的胶片质量,并具有更大的工艺灵活性和控制能力。h