二手 PERKIN ELMER 4400 #42927 待售
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ID: 42927
Sputtering systems
With sputter etch capability
8" Round targets
Single gas
Includes:
Delta backing plate
Insulator
Dark space shield & magnet
(2) DC Magnetron assemblies
(2) DC Magnetrons
RF Diode assembly
Etcher
RF Generator, 1 kW
AE MDX-5, 5 kW DC P/S
MKS MFC: Gas control by controller
CT-8 Cyro pump with SC controller
Gas system:
MKS MFC With MKS 250 controller
SST Gas line with VCR connections
BARATRON With MKS-270 controller
G.P. 303 Dual ion guage controller
HENRY RF Generator 1 kW
AE MDX-5 5000w DC Power supply
Process chamber
CT-8 Cryo & SC Compressor.
PERKIN ELMER 4400是专为精密样品制备而设计的高通量溅射设备。适用于生产优质薄膜，特别是先进的工业应用，如金属、金属合金和氧化物的沉积，以及各种基材上的半导体。这个溅射系统配备了强大的18 kW电源，能够将高达2.5nm/min的材料沉积到基板表面上。目标持有者的设计可以方便地容纳多达5个不同的目标。此外，先进的快门机构确保在整个样品区域内均匀沉积，同时提供自动目标交换和最小程度的空气或大气暴露。溅射过程发生在一个封闭的磁屏蔽室内，防止来自目标表面的杂散电子。这反过来又导致了沉积的均匀性和优秀的薄膜质量。一个自动化的、可编程的、批量控制单元和实时的表面X射线光谱表面控制，可以方便地操作和控制溅射过程，具有沉积时间、电流、温度和压力等性能参数可监测和调节。该机非常适合于金属、金属合金和氧化物的沉积，如氧化铝、金、氧化钛、氧化散铵等。它配有各种沉积配件，包括一个有角度的基板卡盘和石英曲折单元，使薄膜能够沉积在难以触及的基板上，具有锐角控制。此外，先进的溅射头允许高通量生产尺寸和形状可变的晶片或面板。4400提供卓越的性能和许多先进的功能,使其用户能够在最短的时间内以极好的均匀性生产极薄的薄膜。它是商业和工业用途的理想溅射工具。
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