二手 PERKIN ELMER 4400 #9023631 待售

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製造商
PERKIN ELMER
模型
4400
ID: 9023631
Sputtering system (3) Targets DC Magnetron Cryo pumps DC and RF Power supplies Etch capability Load lock Bias etch preclean capability Original controller Does not include PLC based Includes: Manuals Mechanical vacuum pump.
PERKIN ELMER 4400是一种常用于薄膜沉积的溅射设备,用于研发。该系统具有2室配置,其中目标放置在主室中,基板,如半导体晶片、太阳能电池和显示器被安置在次室中。溅射单元提供对温度、压力、电压、射频和直流功率、脉冲时间、脉冲频率、脉冲宽度等溅射参数的高精度控制。这允许均匀、一致的涂层的基板具有均匀的厚度和形态。此外,该机可配置为双阴极操作,使两种材料一次沉积。4400配备了高级自动化功能。它具有计算机控制的机械臂和先进的视觉识别软件,可以在装卸过程中检测基板。这增加了吞吐量,因为基板可以在没有人工干预的情况下有效地进出腔室。该工具还提供了用户友好的图形用户界面(GUI),可轻松控制和监视溅射过程。它可以通过以太网连接远程操作,并且可以存储工艺配方,这对于大规模生产运行特别有用。此外,该资产还具有独立的过程控制功能,可调节溅射气体的搅拌速度和方向。PERKIN ELMER 4400有广泛的应用,包括半导体器件制造、电池、太阳能电池板和显示器制造、数据存储、光学滤波器生产等等。该模型用途广泛,可用于定制涂层,如多层薄膜,具有出色的尺寸控制、附着力和层间连续性。无论是作为独立设备使用,还是集成到完整的生产线中,4400提供了可靠、高效的溅射沉积。它结合了最先进的技术,包括对溅射参数的精确控制、先进的自动化以及用户友好的界面,使其成为满足研究和生产需求的理想解决方桉。
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