二手 PERKIN ELMER 4400 #9026902 待售

PERKIN ELMER 4400是一种强大的溅射设备，广泛应用于工业实验室和生产设施。它是为薄膜层沉积在半导体晶圆等大基板上而设计的。该系统利用溅射室、电子束枪等几个真空系统组件，在几纳米范围内形成均匀的薄膜层厚度。该单元的腔室由不锈钢制成的带有Glomex浮动光学元件的钟形罐组成。这些浮动光学器件提供了亚微米粒子的有效捕获和磁性屏蔽，以确保真空条件的均匀性和减少杂质污染。溅射室内充填有高纯度散热源或其他气体，为目标沉积提供低压气氛。溅射过程的核心是产生高能电子通量的电子束枪，用于轰击溅射目标和从目标中提取薄膜层材料。电子枪使用电子束控制器和预聚焦线圈来维持聚焦束。该枪是可调的，以适应不同的基材尺寸。来源靶标通常在过程中由纯金属或合金如钛、铬、钴、镍等制成。沉积速率通常为1-2 nm/s，可以根据目标的大小和形状以及沉积过程的速度进行调整。目标转速也可以调整，以优化膜沉积速率。机器也有一个整体的温度控制，帮助维持底物温度在一个理想的水平。该工具还包括一个带有可调谐激光器和能量分析仪的现场诊断资产。这有助于监测薄膜沉积过程的进展，确保所需的薄膜层均匀沉积在基板上。该模型还提供了阶跃覆盖和方向性控制等功能，以确保薄膜层的均匀性和完整性。综上所述，4400是一种功能强大、用途广泛的溅射设备，设计用于各种应用的薄膜层沉积。其设计保证了沉积膜层的均匀分布，使系统成为各种复杂沉积过程的理想选择。