二手 PERKIN ELMER 4400 #9077091 待售
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ID: 9077091
晶圆大小: 6"
优质的: 2004
Sputtering system, 6"
Sput down
(3) Targets, round 8"
RF/DC or Delta CTI Cryo pump and compressor
Upgraded RF and DC power supplies
Leybold D-30 MP
Computer controller
AE RFX-3000 and Pinnacle DC P/S turbo load lock
Ferrofluidic table and elevator assy PC ripe control
2004 vintage.
PERKIN ELMER 4400是一种用于薄膜沉积的溅射设备,主要用于表面分析、研究和工业应用。这种溅射系统可以沉积金属、合金、半导体和绝缘体的均匀薄膜,也能提供对沉积速率的高度控制。它的工作原理是轰击一种目标材料,使用的离子要么是氙气,要么是适当的气体溷合物,而底物则保持在超高真空室中。对目标材料的"溅射"或轰击导致粒子从目标材料中喷射出来,然后穿过腔室进入基质。这些粒子含有来自目标材料的原子,这些原子最终在基板上形成薄膜。4400溅射装置是一种节能模式,即使在低功率设置下也能产生高沉积速率。它采用了一种集成的减强剂,它只允许使用该工艺所需的气体,并有助于降低总体成本。它还使用涡轮分子泵改进真空结果。这种泵的抽水速度高达10,000升/秒,可以根据项目的需要进行定制。该机还提供了广泛的溅射源,提供各类材料的最高质量溅射。它提供独立控制温度和电流以及可调频率级别等功能。它还包含了一个机器人装载机/卸载机工具,与多达8个晶片或基板兼容,具有高达120毫米/秒的峰峰运输速度。整个资产也是高度可调整和可定制的。腔室可旋转360度上下移动,提供沉积物料的最佳视野,并监控过程。该模型还提供了可靠的监测和警报系统,可以快速干预可能的故障或问题。PERKIN ELMER 4400溅射设备快速、高效、可靠,是需要沉积薄膜的项目的绝佳选择。有了正确的设置,系统可以通过使用高质量的溅射源和机器人装载机/卸载机功能,生产出均匀一致的薄膜。此外,该单元还具有可调参数、密切监控和报警系统,在精确和准确方面提供了安心。
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