二手 PERKIN ELMER 4400 #9224800 待售

PERKIN ELMER 4400是一种溅射设备，广泛应用于半导体工业中，用于导电材料薄膜的沉积。它由真空室、射频高频发生器、溅射阴极和目标组成。腔室内充满惰性气体，典型的是氙气，允许真空水平高达10-6毫巴。为了进行溅射，射频发生器将交流输入电流转换为应用于溅射阴极的高频射频场。电子向目标基板加速，撞击时会造成目标材料的侵蚀。这提供了一个清洁和均匀的沉积材料在基板上。4400溅射系统可单层或多层沉积，沉积速率从0.1nm至12,000nm/min，具体取决于工艺参数。它可以沉积氧化物、氮化物、碳化物和金属等材料，并允许调整溅射速率和离子组成，以控制膜的厚度、均匀性和组成。可达到5-500nm的最小薄膜厚度范围。带有4英寸圆形目标的真空室通常配有PERKIN ELMER 4400溅射单元，允许使用4英寸晶片。4400溅射机具有多种特点，使其成为薄膜沉积的便捷选择。它配备了几个安全功能，如气流监控器、压力指示器和温度指示器。该工具还配备了先进的电源，使用户能够精确控制电源，从而能够准确调整沉积速率。此外,图形用户界面（GUI）允许用户快速轻松地监视和控制诸如腔室压力、溅射速率和目标电压等过程参数。PERKIN ELMER 4400溅射资产是半导体行业中沉积薄膜的可靠高效选择。它易于操作和维护,为用户提供了广泛的优势,使其成为许多溅射应用程序的理想选择。