二手 PERKIN ELMER 4400 #9283424 待售
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ID: 9283424
Sputtering system
PLC Upgrade
(3) RF Diode target assemblies
Etch
Table motor: Encoder for accurate and repeatable positioning
Power supplies
Cryopump
RF Power supply: 1200 W
Chambers:
Upgraded chamber and frames
No alignment
Table:
Upgraded motors
No realign wafer transfer
Ferrofluidic table assembly
Target assembly:
Magnet for higher utilization of targets cathode, 8"
INSTRUTECH Direct feed to PLC
Air manifold: Modular connections
Touchscreen:
Display
Interface: OPTO 22
INTEL Computer.
PERKIN ELMER 4400是一种用于薄膜沉积的溅射设备。它是一个多用途溅射站，可用于沉积多种材料，如金属、合金、陶瓷和聚合物。它非常适合在一系列基板上制造高质量的光学、电气和半导体涂层。该系统具有两个独立的高真空室，允许在两个不同的基板上同时沉积。该单元能够处理直径不超过8英寸的基板,并且可以制造厚度从0.5nm到2µm不等的薄膜。最优真空水平可以快速、方便地达到，旋转的圆形阴极确保在大面积基板上均匀沉积。4400允许使用直流磁控管溅射系统创建极其精确和均匀的薄膜。这两个独立的电源能够产生高达2000瓦的总功率，能够准确控制沉积速率。使用可调二次电子电流（SEC）可以实现高水平的过程控制，从而能够微调溅射过程。内置显示反馈机对总离子电流、SEC电流、晶圆检测器、目标持有者温度、基板温度等重要参数提供即时测量反馈。集成控制器还提供了对偏置电压、快门和关闭、气体入口等的精确控制。总之，PERKIN ELMER 4400是一种先进的多用途溅射工具，用于为各种应用创造高质量的薄膜。其两个独立供电的腔室，内置的显示反馈，可调的SEC电流和其他特点，允许精确的过程控制和均匀沉积材料在大面积基板上。
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