二手 PERKIN ELMER 4400 #9283424 待售

製造商
PERKIN ELMER
模型
4400
ID: 9283424
Sputtering system PLC Upgrade (3) RF Diode target assemblies Etch Table motor: Encoder for accurate and repeatable positioning Power supplies Cryopump RF Power supply: 1200 W Chambers: Upgraded chamber and frames No alignment Table: Upgraded motors No realign wafer transfer Ferrofluidic table assembly Target assembly: Magnet for higher utilization of targets cathode, 8" INSTRUTECH Direct feed to PLC Air manifold: Modular connections Touchscreen: Display Interface: OPTO 22 INTEL Computer.
PERKIN ELMER 4400是一种用于薄膜沉积的溅射设备。它是一个多用途溅射站,可用于沉积多种材料,如金属、合金、陶瓷和聚合物。它非常适合在一系列基板上制造高质量的光学、电气和半导体涂层。该系统具有两个独立的高真空室,允许在两个不同的基板上同时沉积。该单元能够处理直径不超过8英寸的基板,并且可以制造厚度从0.5nm到2µm不等的薄膜。最优真空水平可以快速、方便地达到,旋转的圆形阴极确保在大面积基板上均匀沉积。4400允许使用直流磁控管溅射系统创建极其精确和均匀的薄膜。这两个独立的电源能够产生高达2000瓦的总功率,能够准确控制沉积速率。使用可调二次电子电流(SEC)可以实现高水平的过程控制,从而能够微调溅射过程。内置显示反馈机对总离子电流、SEC电流、晶圆检测器、目标持有者温度、基板温度等重要参数提供即时测量反馈。集成控制器还提供了对偏置电压、快门和关闭、气体入口等的精确控制。总之,PERKIN ELMER 4400是一种先进的多用途溅射工具,用于为各种应用创造高质量的薄膜。其两个独立供电的腔室,内置的显示反馈,可调的SEC电流和其他特点,允许精确的过程控制和均匀沉积材料在大面积基板上。
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