二手 PERKIN ELMER 4400 #9355617 待售

製造商
PERKIN ELMER
模型
4400
ID: 9355617
Sputtering system (3) Round targets, 8" With RF etch CTI On board (8) cryopump with fast regen controller ADVANCED ENERGY RFG 1250 RF Power supply ADVANCED ENERGY RFG / AZX RF Controller GRANVILLE PHILLIPS 307 Ion gauge controller MKS 270 Signal controller.
PERKIN ELMER 4400是一种用于研究和工业应用中的薄膜沉积的溅射设备。这种设备具有许多特性和技术,使其能够快速高效地处理基板。4400年采用的脉冲反向磁控管溅射技术是生产薄膜和增强基板附着力的一种通用、可靠的工艺。根据设定的参数,可以快速准确地调整工作周期,从而确保胶片的持续增长。该系统还允许多目标配置,这对于批量生产线来说可以是一大优势。PERKIN ELMER 4400还设计了坚固的电源,可精确控制各种薄膜沉积技术所需的射频功率水平。这样可以确保胶片的均匀性和一致性,而不管目标条件如何。4400通过其创新的真空装置确保了清洁的工作环境。它采用多级泵机设计,包括爱德华兹40 XDS干式涡旋泵和排气系统150干式真空泵,可快速排出沉积室和工具排气。此外,PERKIN ELMER 4400设有直列式石油分离器,以防止油污。可用基板尺寸和配置的范围也随着4400的扩大而扩大,因为它可以容纳直径可达8英寸(200毫米)的晶圆尺寸。这提供了更大的灵活性,以适应不同的基板和处理小运行的能力。总体而言,PERKIN ELMER 4400提供了精确度、可靠性和生产率,使其成为各种薄膜沉积应用的首选,包括医疗设备、半导体、复合半导体和工业真空元件。这种溅射资产的设计提供了一个简单的方法,以更薄的薄膜沉积与流线型工艺。它还配备了许多功能和技术,可确保完成最艰巨的任务。
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