二手 IPEC PLANAR 372M-44113-1 #9043888 待售

IPEC PLANAR 372M-44113-1是一种多级晶片研磨、研磨、抛光设备，专为薄晶片的平面化和制造而设计。该系统使用金刚石或氧化铝等磨料颗粒和专利旋转运动，同时使磨料颗粒穿过晶圆表面，操纵接触压力和抛光进行的速率。IPEC PLANAR单元使用的工具是专门为要求苛刻的应用而设计的,例如平面化、精密研磨和直径6英寸的薄片抛光。集成的研磨、研磨和抛光头为寻求高质量加工性能以及低浪费和污染的用户提供了双赢的解决方桉。372M-44113-1台机器可确保力、压力和温度在整个晶片上保持恒定,从而实现均匀的平面化以及出色的精磨和抛光。为确保高端处理结果,刀具组件可调节以处理不同直径的晶片。嵌入式机器包括用于薄层的双级抛光、6英寸压力板和用于控制释放磨料的料斗。IPEC PLANAR 372M-44113-1资产是可控的跨晶圆监控参数，确保统一的质量和可重复性的处理结果。内置计算机可防止温度波动或压力变化,同时仍可提供± 0.5 µm的一致结果。用户友好的界面便于操作,降低了设置和操作的复杂性。372M-44113-1非常适合使用玻璃、石英和介电材料，如移植物的化合物，如的锂、的锂等。它允许在半导体和光电应用中进行精确的表面制备，以及微光学、激光元件和其他精密元件。它设计用于超高真空（UHV）应用,同时提供清洁、无尘的环境以提高零件质量。IPEC PLANAR 372M-44113-1具有可调整的特性和内置的计算机来监控工艺参数,是半导体行业不可或缺的一部分,它有助于实现晶圆的完美平面化、精磨和抛光,产生可靠和可重复的结果。