二手 AOC MAST-3000-AT #9145578 待售
网址复制成功!
ID: 9145578
Mask cleaning system
Main units:
Loader
CC-1 bath
Nanostrip-1 bath
Nanostrip-2 bath
QDR-1 bath
QDR-2 bath
IPA vapor dryer
Unloader
Hot DIW (48kw)
Specification of process baths:
Chuck cleaning bath(CC bath)
Nanostripbath
Quick drain rinse bath (QDR)
Isopropyl alcohol vapor bath (IPA)
Chemical supply box
H2SO4 Buffer & Circulation unit
H2O2 Supply
H2SO4 Supply
IPA Supply.
AOC MAST-3000-AT是一种高性能的自动化晶片和掩模洗涤器,旨在提高现代半导体工业中光掩模制备的效率和精度。洗涤器是一种先进的设备,可处理6英寸(150毫米)的标线和10英寸(250毫米)的晶圆,最大掩模支架重量可达1.2公斤。它与所有标准的光掩模清洗溶液和缓冲剂兼容。MAST-3000-AT提供了一系列功能,可自动执行洗涤操作,例如控制速度、压力和停留时间,以确保清洁过程中的最高质量和一致性。洗涤器配有步进电机驱动的双磨砂轮,确保在大面积上均匀一致的洗涤器。它还具有可调节的磁头,可以在晶片或掩模支架之间快速、方便地移动。该系统提供了一个强大而安静的通风装置来控制空气中的微粒和烟雾。此外,洗涤器配有安全罩,在紧急情况下可以打开,以防止意外泄漏。洗涤器还配备了不锈钢结构,具有最大的耐腐蚀性和耐用性。利用先进的运动控制算法和图像处理机,设计了AOC MAST-3000-AT,以最大限度地提高生产吞吐量。洗涤器使用自定义构建的运动控制算法来计算每个晶片或掩码的最佳洗涤模式,并且该工具可以根据用户的要求和规格进行定制。此功能可提高洗涤过程的整体精度和一致性。此外,洗涤器提供了一种图像处理资产,可以检测晶圆表面上的任何划痕或其他损坏。洗涤器还配备了标准接口,使数据能够在模型和客户的其他系统之间传输。MAST-3000-AT是半导体行业大大小小晶圆清洗工艺的理想洗涤器。它是现代生产环境的经济高效的解决方桉。
还没有评论