二手 C-SUN PRS #9271179 待售
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ID: 9271179
优质的: 2010
Scrubber
Material of chamber: Aluminum alloy whit surface treatment
Inner chamber: Ø 380 mm x H 305 mm
Application of solar cell:
Edge isolation
Texture
Inductively Coupled Plasma (ICP) source
RF Generator: 13.56 MHz, 1000 W
Standard gas: O2
Gas flow control: Analog type MFC
Dry pump: >150 m³ / hr
Base pressure: >10^-2 Torr
Process pressure: 50~200 m Torr
Automatic system: 15" TFT Panel / IPC / Windows 2000 XP
2010 vintage.
C-SUN PRS是一种晶圆和掩模洗涤器，设计用于半导体制造实验室。它使用强烈的清洁剂稀释水-空气溷合物溶解晶圆和掩模表面存在的颗粒和污染物。洗涤器不仅去除颗粒，而且提供有效的脱脂恢复表面，以其预期的表面化学。PRS是一种使用平台式洗涤器的加固设备。其巨大的漏斗容量允许多达45个晶圆和多达三个掩模在一个周期内进行处理。C-SUN PRS配备了可调节的喷嘴和喷头，以精确输送清洁溶液。洗涤器的循环系统确保清洁溶液不断循环，即使存在致密颗粒也能提供均匀的清洗。此外，一个强大的泵用于注入高压液体的晶片和掩模，有效地驱除顽固的颗粒。该装置装在一个不锈钢外壳中，带有一个宽开口的盖子，便于使用，以便对组件进行快速和清晰的视觉检查。它在415V时以三相电源运行,能够运行2000多个周期和200个连续使用小时。对水和洗涤剂进行自动监控，确保其含量不会过高或过低。可选的集成过滤机还允许PRS从循环清洗溶液中消除溶解的颗粒，提高其有效性。C-SUN PRS是一个完全自动化的工具，为其运营商提供更大的灵活性和便利。PRS在整个清洁周期中运行,无需在加载晶片和口罩后进行进一步干预或调整。它还配备了用户友好的软件，允许用户以方便直观的数据采集来监控和控制其参数。C-SUN PRS在除粒、清洁、成本效益等方面符合业界的严格标准。其坚固的构造使其不易磨损，自动化功能使其性价比高，易于使用。其用户友好的软件和开阔的盖子设计使其成为寻找可靠、精确晶圆和掩模洗涤器的半导体制造实验室的绝佳选择。
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