二手 DISCO DCS 140 #9255326 待售

ID: 9255326
晶圆大小: 8"
Wafer cleaning system, 8" Clean and dry with CDA blow (2) Stream jet options High pressure pump.
DISCO DCS 140是一种湿式晶片和掩模洗涤器,设计用于半导体工艺室。它旨在消除人工擦洗晶片和掩模的需要,减少颗粒和有机污染,并提供一致的结果。洗涤器采用两步工艺,包括机械洗涤器工艺和化学洗涤器工艺。在机械擦洗过程中,将晶片加载到擦洗平台上,擦洗头机械擦洗晶片,将振动和旋转运动精确结合。在化学擦洗过程中,将清洁剂分配到晶片上,并用喷水冲洗掉该剂,从晶片表面清除残留颗粒。清洁剂有效去除机械擦洗过程产生的残留物。DISCO DCS140洗涤器具有多项功能,可确保可靠的洗涤器性能。它有一个两室系统,可以在顺序系统中使用,其中晶圆在两个室之间移动,也可以在单室系统中使用,晶圆在整个洗涤过程中保持在同一个室中。它还具有两种操作模式-自动化和手动-允许用户根据需要调整洗涤参数。洗涤器具有内置的安全功能,包括自动控制洗涤器头部高度,一个用于检测何时需要重新装满水箱的湿度传感器,以及用于确保操作员免受潜在危害的安全网和屏障。它还可以通过控制面板远程操作,从而在生产过程中提供更大的灵活性。DCS 140洗涤器机身紧凑,足迹只有900H x 600W x 600D mm,适合空间有限的设施。其轻巧的结构也为洗涤器配备了出色的机动性。此外,洗涤器还配备了一个可容纳7.1升水的水箱,使其能够在不需要重新装填的情况下进行更长的洗涤周期。洗涤器的全部内容在使用过程中通过一个清晰的查看窗口可见,允许用户在不必打开洗涤器门的情况下监控洗涤器的进度。洗涤器还具有几个显示错误、警告和机器状态指示灯的显示器和LED指示灯。总之,DCS140是一种可靠高效的湿式晶片和掩模洗涤器,旨在满足半导体生产工艺的苛刻要求。它使用方便,尺寸紧凑,是空间有限设施的理想选择。
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