二手 DISCO DCS 141 #9096535 待售

DISCO DCS 141是一种全自动晶片和掩模洗涤器，旨在提高基板的质量和提高器件的产量。它采用双喷雾旋转洗涤工艺，对半导体制造中使用的硅片和光掩模进行均匀清洗。DISCO DCS141使用单个刷子将晶片/掩模驱动到清洁模块上方，而两个喷雾喷射器则连续喷洒清洁液。当晶片或面膜沿着清洁模块向下移动时，会同时用超纯水擦洗和冲洗。DCS 141具有独特的两级洗涤系统。首先，它在洗涤前预先浸泡晶片，让清洁溶液穿透晶片表面的沉积物。然后，当晶片沿着清洁模块向下移动时，双喷雾射流同时利用同步的高压洗涤和低压冲洗作用来驱除表面污染物和未浓缩颗粒。除了超声波清洗晶片/面膜外，DCS141还具有离心干燥系统。当晶片/掩模通过清洁模块时，空气被迫通过一系列喷嘴，迅速蒸发清洁溶液并同时干燥晶片/掩模。这种干燥系统可以防止任何液体夹在半导体晶圆/掩模的微蚀刻之间。DISCO DCS 141配备了一条传送带，每个循环最多可容纳三个晶片/口罩。晶片/掩码可以是各种大小、形状和厚度。DISCO DCS141的洗涤性能也可以调整，以匹配正在清洗的晶圆/掩模的大小和类型。DCS 141配备了LAB/QC（品质控制）模式,允许用户配置洗涤器以进行晶圆/掩模清洁验证测试。LAB/QC模式显示出更好的过程重复性和重复准确性,其结果提供了有关残留物清除、表面积覆盖、污染水平和其他重要过程参数的详细信息。DCS141还配有触摸屏控制面板,可方便地访问编程参数,如洗涤速度、洗涤压力、水流率、干燥时间和其他操作参数。这使得设置洗涤器以满足用户的需求比以往任何时候都容易。DISCO DCS 141采用直观的用户界面设计,致力于安全性和可靠性,为半导体制造过程中使用的硅片和光掩模的清洗提供了一个高度可靠和高效的自动化解决方桉。