二手 DISCO DCS 141 #9382615 待售
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ID: 9382615
晶圆大小: 4"-6"
优质的: 2008
Automatic wafer cleaning system, 4"-6"
Tool panel key
Spinner table, 4"-6"
Cleaning method: High pressure cleaning
Table rotation speed: 0-3,000 RPM
Spinner discharge pressure: 2.0 - 12.0 MPa
Gas: N2, air
Voltage: 100 V AC, 1.5 kVA, 50/60 Hz, Single-phase
2008 vintage.
DISCO DCS 141晶片和掩模洗涤器是一种最先进的精密清洁机器，设计用于清洁半导体制造过程中使用的晶片和掩模。其独特的设计允许高速生产和清洁高达600晶片每小时，同时保持100-130 μ米的表面精度。DISCO DCS141 Wafer和Mask Scrubber采用超声波和有机润湿剂的定制组合，结合先进的洗涤设备，实现全面彻底的清洁性能。DCS 141 Wafer and Mask Scrubber的模块化、紧凑的设计完全适合生产线。它具有两级晶圆篮系统，允许在一个负载下处理多达600个晶圆。坚固的不锈钢结构保证了机器的制造能够承受生产的严酷。该装置还设有一个集成的无尘操作排尘装置和一个彻底清洁的自动清洗冲洗机。DCS141晶圆和蒙版洗涤器的清洁性能是首屈一指的。超声波和喷射作用会擦洗晶片和口罩的表面，安全地清除污染物，如助焊剂残留物、油、灰尘和颗粒，而泡沫擦洗臂会进一步清洁任何顽固的颗粒。所使用的清洁液体无毒，自动清洗工具确保定期更换液体，以确保性能一致。DISCO DCS 141晶圆和蒙版洗涤器的先进控制使得操作和管理更加方便。用户友好的界面允许快速设置循环参数和实时读数监测清洁过程。智能HMI具有内置报警功能集合，支持多洗涤器的远程监控。DISCO DCS141 Wafer and Mask Scrubber是一台可靠、高效和高性能的清洁机，专为半导体工业中晶圆和面膜的高速生产而设计。其先进的清洁性能、坚固耐用的结构和用户友好的控制,使其成为高质量结果和长期可靠性的理想选择。
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