二手 DNS / DAINIPPON SS-3000-AR #293617845 待售

ID: 293617845
优质的: 2005
Scrubber, 12" Chamber A: Process: Wafer surface clean Vacuum chuck Soft spray N2 10~100NL/min Rinse: DIW / CO2 Injection, resistivity <1 MΩ Spin dry speed: 3000 RPM Chamber B: Process: Wafer surface clean Vacuum chuck Soft spray N2 10~100NL/min Rinse: DIW / CO2 Injection, resistivity <1 MΩ Spin dry speed: 3000 RPM Chamber C: Wafer backside clean Mechanical chuck PVA Burush Rinse: DIW / CO2 Injection, resistivity <1 MΩ 2005 vintage.
DNS/DAINIPPON SS-3000-AR Wafer&Mask Scrubber是一种可靠、高效的清洁设备,设计用于在半导体制造过程中清除晶片和Mask表面的颗粒。该系统利用先进的振动振荡清洗技术,快速高效地擦洗晶片和掩模表面的颗粒。DNS SS-3000-AR包括两个洗涤室,每个洗涤室都有一个振动的清洁头.洗涤室可容纳3000mm2的晶圆和掩模材料。洗涤头由强大的电动机提供动力,可调至三个速度,从而在高频下振动洗涤头。洗涤头能够擦洗晶片和掩模材料的表面和边缘,从材料的外部和内部去除颗粒。洗涤头可调整至三个清洁速度水平,允许高效彻底清洗。该单元配有压力传感器,以确保每个循环期间都有适当的洗涤压力。该机还配备了高科技粒子探测器,可检测材料表面小至0.1 μ m的粒子。DAINIPPON SS 3000 AR结构坚固,可承受极端温度、灰尘、湿度和冲击。该工具还包括有效的环境控制资产,以保持洗涤室的环境清洁和无杂质。DNS SS 3000 AR具有用户友好的界面,具有易于理解、多语言的菜单,允许快速、轻松的设置和操作。此外,可以将外部数据记录模型连接到设备,从而实现全面的过程控制和可追踪性。DAINIPPON SS-3000-AR Wafer&Mask Scrubber是一种高效、高效的清洁解决方桉,旨在去除晶圆和Mask表面最小的颗粒。坚固的结构、精确的压力控制和强大的洗涤头使其成为半导体制造过程中的理想之选,确保了清洁可靠的结果。
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