二手 DNS / DAINIPPON SS-3000-AR #293627542 待售
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ID: 293627542
晶圆大小: 12"
优质的: 2006
Wafer scrubber, 12"
(3) Load ports
Controller
(3) MFC / Pressure unit
Drive mechanism
Chamber A and B:
Process: Wafer surface clean
Chuck: Vacuum chuck
Spray: Soft spray N2 10~100NL/min
Rinse: DIW/CO2 Injection, resistivity <1MΩ
Spin dry: 3,000 rpm
Chamber C and D:
Process: Wafer backside clean
Chuck: Mechanical chuck
Brush: PVA Brush
Rinse: DIW/CO2 Injection, resistivity <1MΩ
Spin dry: 2,400 rpm
Multi-chambers system:
Unit position 1 / U03 SS (surface) / CO2water
Unit position 2 / U04 SS (surface) / CO2water
Unit position 3 / U05 SS (backside) / CO2water
Unit position 4 / U06 SSR (backside) / CO2water
Gas configuration:
Gas line 1: C4F6 200 sccm- STEC D519 / C4F6 200
Gas line 2: COS 30 sccm - STEC D519 / COS 30
Gas line 3: O2 20 sccm - STEC D519 / O2 20
Gas line 4: O2 3000 sccm - STEC D519 / O2 3000
Gas line 5: CH2F2 200sccm - STEC D519 / CH2F2 200
Gas line 6: C4F8 200 sccm - STEC D519 / C4F8 200
Gas line 7: O2 200 sccm - STEC D519 / O2 200
Gas line 8: Ar 1000 sccm - STEC D519 / AR 1000
Gas line 9: CHF3 200 sccm - STEC D519 / CHF3 200
Gas line 10: H2 300 sccm - STEC D519 / H2 300
Gas line 11: NF3 30 sccm - STEC D519 / NF3 30
Gas line 12: N2 500 sccm - STEC D519 / N2 500
Gas line 13: CF4 200 sccm - STEC D519 / CF4 200
Tuning gas 4/line 14: O2 10 sccm - STEC D519 / O2 10
Tuning gas 3/line 15: C4F6 10 sccm - STEC D519_L / C4F8 10
Tuning gas 2/line 16: O2 10 sccm - STEC D519 / O2 10
Tuning gas 1/line 17:C4F6 10 sccm- STEC D519_L / C4F6 10
ATM, EFEM: 4 Wide EFEM type
Power supply: 208 AC, 3 Phase
2006 vintage.
DNS/DAINIPPON SS-3000-AR Wafer and Mask Scrubber是一款最先进、可靠且易于使用的机器,旨在清洁晶片和Mask。这种广泛使用的设备具有高精度晶片和低粒度的掩模清洗操作。这种洗涤器的综合清洁机制具有振荡和松弛的特点，以快速但温和的方式清除颗粒污染和残留的化学物质。该系统通过创新技术和先进的工程设计,实现了卓越的清洁性能.DNS SS-3000-AR采用高效的清洁体系结构设计,包括晶圆和掩模洗涤器模块、光滑快速洗涤器、化学注入模块和湿洗涤器。晶圆和面罩洗涤器模块由碗、滑块和刷子组成。滑块采用机动方式,以控制的方式轻柔地洗去颗粒.考虑到微妙的成分，刷子轻轻地清除晶片中的污垢和其他污染物。此外，化学注射模块将清洁溶液精确注入洗涤器的正确轨道，以有效减少化学消耗。然后，湿式洗涤器在洗涤过程完成后进一步清除污垢和化学溶液。再者，这个单元可以用多种清洁溶液进行擦洗，包括去离子水、异丙醇和稀盐酸。实际的清洗过程是由振荡和晃动相结合得出的，使得洗涤操作的有效性更高。此外，这种洗涤器还能实现颗粒尺寸低至0.3 μ m的分子清洁。另一大特点是能够根据清洗用途设置广泛的参数，包括洗涤器、振幅和预洗涤时间。这使得这种洗涤器能够以高精度和精确度用于各种清洁用途。DAINIPPON SS 3000 AR晶圆和Mask Scrubber也是用户友好的。本机配备了直观的液晶触控显示屏和易于理解的菜单，令机器操作风起云涌。液晶屏提供了对擦洗进度和任何潜在错误的全面了解,同时可以快速传达所有相关信息。总之，SS-3000-AR晶片和掩模洗涤器是一个非常高效和用户友好的工具，设计清洁晶片和掩模具有很高的精度和精确度。它配备了多种功能，以精心定制清洁参数，同时还提供直观易用的液晶显示屏。凭借其全面的清洁机制，该资产将在短时间内确保提供卓越的清洁效果。
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