二手 DNS / DAINIPPON SS-3000-AR #293627543 待售
网址复制成功！
单击可缩放
ID: 293627543
晶圆大小: 12"
优质的: 2005
Wafer scrubber, 12"
(3) Load ports
Controller
(3) MFC / Pressure unit
Drive mechanism
Chamber A and B:
Process: Wafer surface clean
Chuck: Vacuum chuck
Spray: Soft spray N2 10~100NL/min
Rinse: DIW/ CO2 Injection, resistivity <1MΩ
Spin dry: 3,000 rpm
Chamber C and D:
Process: Wafer backside clean
Chuck: Mechanical chuck
Spray: Soft spray N2 10~100NL/min
Brush: PVA Brush
Rinse: DIW/CO2 Injection, resistivity <1MΩ
Spin dry: 2,400 rpm
Multi-chambers system:
Unit position 1 / U03 SS (surface) / CO2water
Unit position 2 / U04 SS (surface) / CO2water
Unit position 3 / U05 SS (backside) / CO2water
Unit position 4 / U06 SSR (backside) / CO2water
Gas configuration:
Gas line 1: C4F6 200 sccm- STEC D519 / C4F6 200
Gas line 2: COS 30 sccm - STEC D519 / COS 30
Gas line 3: O2 20 sccm - STEC D519 / O2 20
Gas line 4: O2 3000 sccm - STEC D519 / O2 3000
Gas line 5: CH2F2 200sccm - STEC D519 / CH2F2 200
Gas line 6: C4F8 200 sccm - STEC D519 / C4F8 200
Gas line 7: O2 200 sccm - STEC D519 / O2 200
Gas line 8: Ar 1000 sccm - STEC D519 / AR 1000
Gas line 9: CHF3 200 sccm - STEC D519 / CHF3 200
Gas line 10: H2 300 sccm - STEC D519 / H2 300
Gas line 11: NF3 30 sccm - STEC D519 / NF3 30
Gas line 12: N2 500 sccm - STEC D519 / N2 500
Gas line 13: CF4 200 sccm - STEC D519 / CF4 200
Tuning gas 4/line 14: O2 10 sccm - STEC D519 / O2 10
Tuning gas 3/line 15: C4F6 10 sccm - STEC D519_L / C4F8 10
Tuning gas 2/line 16: O2 10 sccm - STEC D519 / O2 10
Tuning gas 1/line 17:C4F6 10 sccm- STEC D519_L / C4F6 10
ATM, EFEM: 4 wide EFEM type
Power supply: 208 AC, 3 Phase
2005 vintage.
DNS/DAINIPPON SS-3000-AR Wafer&Mask Scrubber是一种高度可靠、高效和精确的工具,旨在使用全自动、多种操作模式清洁晶圆和Mask表面。这种洗涤器是作为先进半导体制造工艺的一部分而创建的。洗涤器采用加压、带洗涤剂的热水、低真空吸力等方式，有效擦洗晶圆和面膜的表面积。这个过程创造了一个完美平坦光滑的表面，允许在物理气相沉积的下一步完美蚀刻模式。洗涤器还包括一个精细的净化设备，以确保清除清洁过程中从表面脱落的任何小颗粒。洗涤器具有广泛的功能，包括一个功能强大、节能的泵，只使用大约2至3帕斯卡的压力进行清洁，以及一个单独的低真空吸力来去除颗粒。泵还具有可调节的流量，以便更好地控制清洁过程。此外,洗涤器具有超高精度模式,使设备能够精确地瞄准和擦洗晶圆或掩模中的微小区域。洗涤器还配备了易于调节、可编程的运动控制系统。此功能允许操作员根据手头的任务自定义洗涤器。运动控制单元还确保洗涤器以安全可靠的方式使用。为了增加方便和准确性，DNS SS-3000-AR Wafer&Mask Scrubber配备了与洗涤器的运动控制机配合使用的数字图像处理软件。此软件能够分析和识别晶片或掩模表面的任何缺陷,使其能够对洗涤器的设置进行调整以快速有效地清洁表面。总体而言,DAINIPPON SS 3000 AR晶片和掩模洗涤器是一种可靠且高效设计的工具,可为正在为半导体制造行业准备的任何晶片或掩模创建高质量、均匀的表面。凭借其高精度的资产、高效的节能功能和数字图像处理软件,DS-3000-AR可以确保为制造过程准备的表面得到适当的清洁,均匀且可用于蚀刻。
还没有评论