二手 DNS / DAINIPPON SS-3100 #293591974 待售

DNS / DAINIPPON SS-3100
ID: 293591974
晶圆大小: 12"
Wet clean wafer scrubber, 12".
DNS/DAINIPPON SS-3100 Wafer&Mask Scrubber是为半导体制造工艺而设计的顶级晶圆和mask洗涤器。它能够为包括极紫外光刻(EUVL)在内的最先进的半导体技术提供先进的自动掩模清洗。创新的洗涤器设计有助于确保最终产品质量纯正、可靠且不受污染。DNS SS-3100采用全自动晶片和掩蔽子系统设计,可帮助确保每一个磨砂周期都有百分之百一致的结果。洗涤设备主要由晶圆/面膜清洗站和洗涤软件两个部分组成。清洁站设有符合人体工程学设计的操作员界面,具有现代外观和感觉,易于使用。Scrub软件具有用户定义的设置,允许精确的精确控制和应用程序过程的可重复性。DAINIPPON SS 3100最大载荷容量可达十二个晶圆和十六个掩码。这种增加的灵活性允许擦洗不同尺寸的晶片和掩模,这使得系统高度适应现代半导体生产中使用的各种工艺。晶片的最大工艺间距为125 μ m,口罩的最大工艺间距为25 μ m,因此,洗涤器即使是最好的、最关键的口罩模式也能进行清理。DNS SS 3100旨在提供最高质量和最一致的擦洗结果。晶片/面膜清洁模块采用创新的三步清洗工艺,以确保面膜和晶片表面原始且无污染。洗涤操作包括使用超细磨料、水和清洁溶液以确保完全清洁,以及特殊的防弹回功能,以实现洗涤效果的最佳可重复。SS 3100设计了用户友好、直观的界面,使洗涤过程易于使用。可靠的性能诊断菜单使用户可以快速准确地检查设备状态并诊断问题。机器还提供报警保护,确保洗涤器不会过度劳累,损坏工艺材料,还附有用户维护菜单,方便快速检查。综上所述,DNS/DAINIPPON SS 3100晶圆和掩模洗涤器是一种用于半导体掩模和晶圆洗涤器操作的功能强大且可靠的工具。洗涤器采用轻巧且符合人体工程学的设计,使洗涤器的处理过程简单高效。洗涤结果是可重复的,质量极高,对于最终产品的可靠性至关重要。集成的诊断、警报保护和用户维护菜单使洗涤器具有很高的可靠性,并确保它能够跟上最现代的半导体制造程序。
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