二手 DNS / DAINIPPON SS-3100 #293810127 待售
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ID: 293810127
晶圆大小: 12"
优质的: 2012
Wafer scrubber, 12"
Power box
(4) Load ports
Wafer type: Notch
Main controller
Host controller
Indexer
Transfer robot
Reverse unit
(4) SSM Spin units
(4) SSV Spin units
(4) SHINKO SELOP Load ports
CO2 Bubbler maker
Remote AC Box
Handler system:
(4) SS Chucks
(4) SSR Chucks
Indexer robot
Transfer robot
Reverser
Process chambers:
SC1
CO2 Water
Rinse / Spin dryer
Process:
Brush
DI Water filter
(3) Nozzles: Spray, rinse, back rinse
SSV:
Vacuum chuck
(5) Nozzles: Back side rinse, SC1, Spray1, Brush1, Brush2
SSM:
Magnetic chuck
(4) Nozzles: Back side rinse, SC1, Spray1, Brush1
Power supply: 208 V, 60 Hz
2012 vintage.
DNS/DAINIPPON SS-3100 Wafer&Mask洗涤器是一种革命性的新型洗涤工具,专为高级光学和半导体封装而设计。这种最先进的洗涤器具有先进的清洁、高能聚焦和超临界流体分散技术的独特组合，能够彻底有效地清洁敏感的光学元件以及集成电路。DNS SS-3100洗涤器利用特殊的三模控制真空，有效消除任何类型的基材或掩模晶片上的灰尘、颗粒和表面缺陷。洗涤器的真空设计方便地调整不同尺寸和形状的基板和创造一个最佳的洗涤环境。此外，潜水器能够有效清除所有类型的污染物，包括油、焊料和其他工业残留物，给你最干净的结果。借助DAINIPPON SS 3100洗涤器，用户可以轻松清洁敏感的口罩和晶片，如硅和TFT，以增强半导体行业的质量控制。DNS SS 3100洗涤器配有高能聚焦系统，确保在清洗过程中发挥最大效能。该系统有效地降低了氟和硫酸盐的污染水平，改善了半导体表面的平滑度，减少了聚合物和粘合剂的污染。此外,它还有效地控制了薄层的精密清洁过程.由于其超临界流体分散技术，SS 3100洗涤器能够以高超音速的射流速度清除不需要的污染物。通过制造空气/液体-气体溷合物，洗涤器产生一种极其浓缩的清洁溶液，能够有效地解决各种表面问题。利用这一技术，洗涤器不仅能够清洁基板和面膜的表面，而且能够高精度地进行检查。总体而言,DNS/DAINIPPON SS 3100是一种出色的晶圆和掩模清洁设备,具有先进的清洁功能和关键的液体分散。这种洗涤器非常适合在半导体工业中使用，并确保清洁过程中的最大效率。此外，它还能够仔细检查表面清洁的结果，使其成为高性能、注重质量的公司的绝佳选择。
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