二手 DNS / DAINIPPON SS-80BW-AR #9205458 待售

看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。

ID: 9205458
Scrubber, 8" SMIF Type Options: 2F / 2B Moving type: Transfer robot Loading position type: Right-side type Signal tower: 4-Color (GYWR) Patlite type Indexer unit: (4) SMIF Type Wafer detect sensor Transfer robot (Vacuum less) / X,Y, Z, R Axis TR Unit: Dual arm transfer robot (Vacuum less) / XI, X2, Y, Z, R Axis Wafer detect sensor Back-side spin unit: Magnetic chuck type Brush nozzle (Normal type) Jet nozzle DIW1, D1W2, back rinse, brush rinse, N2 blow, N2 purge Front-side unit: Vacuum chuck (Black acetal) Brush (Brush pressure control system) Jet nozzle DIW1, DIW2, Back rinse, brush rinse, N2 blow, N2 purge Reverse unit: (2) Reverse units Side cabinet: (4) High pressure pumps / EBARA / PJ-50 / E50-R13K / 5(Mpa) Meg-con system FFU Chamber & controller Drain mani-fold unit 2000 vintage.
DNS/DAINIPPON SS-80BW-AR是专门为光刻生产而设计的晶圆和掩模洗涤器。洗涤器提供高水平的自动化和控制,能够可靠的清洁,而不会伤害晶片或面罩。该设备适用于一系列应用,包括镜头前的清洁面罩和曝光系统,以及显影后的晶片擦洗。DNS SS-80BW-AR洗涤器具有可靠、高效的清洁工艺,具有高精度控制器、自适应洗涤力和铰链盖等特点,便于访问。洗涤器使用计算机控制的力来提供口罩和晶片的温和洗涤。可以在0.8-2.4N之间调整力,以确保清洁最适合被擦洗材料的灵敏度。洗涤器有两个主要部分:一个装有洗涤轮和洗涤液的清洁室和一个控制室。清洁室的设计是为了减少清洁液从以前的晶片的残留.控制室设有真空源、温度传感器、力传感器、压力传感器,以及用于实时监控清洁过程的CCD摄像头。该系统是为低颗粒和水污染而设计的,包括一个用于控制洗涤工具温度的单元。洗涤器还具有RR监控功能,允许用户监控粒度、浓度和流量。为确保安全可靠的操作,DAINIPPON SS 80BW AR洗涤器旨在提醒用户在洗涤过程中有任何可能的污染或错误。该机还设计用于防止晶片之间的交叉污染,每次使用后自动清洗洗涤轮。SS-80BW-AR是光刻生产中晶圆和面膜清洗的理想选择。它提供了一个可靠、自动化的清洗过程,具有可调的洗涤力,温度控制,和颗粒控制。洗涤器易于使用和维护,减少了停机时间并提高了生产率。
还没有评论